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J-GLOBAL ID:201702212687453486   整理番号:17A0369875

トポロジカル絶縁体Bi_2Te_3薄膜の厚さに依存する磁気輸送特性とテラヘルツ応答【Powered by NICT】

Thickness-dependent magnetotransport properties and terahertz response of topological insulator Bi2Te3 thin films
著者 (6件):
資料名:
巻: 692  ページ: 972-979  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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構造,形態,磁気輸送特性だけでなく,パルスレーザ蒸着(PLD)により成長させたトポロジカル絶縁体Bi_2Te_3薄膜の0.25 2.25THz領域におけるテラヘルツ(THz)応答の厚さ(d)依存性を報告した。Bi_2Te_3膜は134.8cm~ 1で102.5cm~ 1とA~2_で高度にc軸配向(組織膜)及びE~2の二Raman活性モードを示した。膜は比較的低いキャリア濃度2.0×10~19と4.4×10~19cm~ 3を得た。膜は低磁場(B)の二次元の弱い(2D WAL)反局在磁気抵抗を示し,2D WALは厚さ依存性を示し,トポロジカル表面状態(TSS)の存在を示唆した。膜厚は152~16QL減少するとTHz透過率が,抵抗率の増加(減少したキャリア濃度と関連する)のために増加した。複素コンダクタンスはDrude表面,Drudeバルク,およびフォノンの三成分とDrude-Lorentzモデルにより良く記述された。表面のDrudeスペクトル重み(SW)が支配的で,厚さに依存しなかった。に加えて,バルクとフォノンSWのDrude SWは厚さの増加と共に直線的に増加する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (4件):
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半導体結晶の電気伝導  ,  その他の無機化合物の薄膜  ,  電気的性質  ,  熱電デバイス 

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