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J-GLOBAL ID：201702212693057198   整理番号：17A0313558

RFマグネトロンスパッタリングにより作製したSiを注入したVN被覆の構造と性質【Powered by NICT】

Structure and properties of Si-implanted VN coatings prepared by RF magnetron sputtering

著者 (4件)： Zhao Hongjian (School of Materials Science & Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China) ,  Yu Lihua (School of Materials Science and Engineering, Jiangsu University of Science and Technology, Mengxi Road 2, Zhenjiang, Jiangsu Province 212003, China) ,  Mu Chunyan (School of Materials Science & Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China) ,  Ye Fuxing (School of Materials Science & Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China)
資料名： Materials Characterization  (Materials Characterization)
巻： 117  ページ： 65-75  発行年： 2016年07月 
JST資料番号： D0448C  ISSN： 1044-5803  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコン含有量が0~19.8at.%の範囲でVSiN被膜を反応性マグネトロンスパッタリング法により堆積した。構造,機械的,トライボロジー特性と腐食性能を調べた。結果はVSiN被覆はわずかな(111)優先配向したfcc VN,h V_2N,非晶質Si_3N_4相の混合物から成ることを示した。VSiN被覆の硬度,H/EとH~3e~2比は最初増加し,その後減少し,最大値は10.2at.%Siでそれぞれ27GPa,0.098と0.325GPaであった。摩擦係数と摩耗速度は最初減少し,その後ケイ素含有量の増加と共に増加した。0.35と5.1×10~ 6mm~3N~ 1mm~ 1の最小値はat.%Si10.2が得られている。VNまたはVSiN皮膜で被覆された基板の耐食性は裸の基板よりも優れていた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 摩擦係数 ,  皮膜 ,  トライボロジー ,  優先配向 ,  摩耗速度 ,  アモルファスシリコン ,  *ケイ素 ,  耐食性 ,  硬度 ,  *被覆 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  腐食 ,  トライボロジー特性 ,  反応性マグネトロンスパッタリング
準シソーラス用語： *RFマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： VSiN ,  マグネトロンスパッタリング ,  機械 ,  トライボロジー ,  腐食

分類 (3件)： 変態組織,加工組織  (WB01030N) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  クラッド材  (WE04020G)

タイトルに関連する用語 (5件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  Si ,  注入 ,  性質