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J-GLOBAL ID：201702213102922314   整理番号：17A0165511

光合成ストレスに及ぼす乾燥ストレスの影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Effects of silicon on photosynthetic traits of Saponaria officinalis under drought stress

著者 (5件)： Yan Junxin (The College of landscape,Northeast Forestry University) ,  Yang Huiying (The College of landscape,Northeast Forestry University) ,  Deng Yanan (The College of landscape,Northeast Forestry University) ,  Lu Jing (Yichun Society of Forestry of Heilongjiang Province) ,  Li Qiang (The College of landscape,Northeast Forestry University)
資料名： Caoye Kexue  (Caoye Kexue)
巻： 33  号： 10  ページ： 2082-2092  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2659A  ISSN： 1001-0629  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 本研究では、正常な水分、中度の干ばつ、重度干ばつ条件下で、肥Zao草(OFFICINALIS OFFICINALIS)に対して異なる濃度のケイ素を添加し、その葉の光合成指標と葉緑素含有量を測定し、光応答曲線に対してフィッティングを行った。各処理下の肥Zao草葉の光応答パラメータを明らかにした。結果により、ケイ素肥料は正常な水分条件下の光補償点を低下させ、その他の各指標はいずれも高くなることが分かった。2つの乾燥ストレス下で,光合成速度,クロロフィル含有量,最大正味光合成速度,暗呼吸速度,光飽和点,見かけの量子効率は増加し,気孔コンダクタンス,蒸散率,光飽和点は減少した。0.3と0.4G SIO_2 KG(-1)の添加は,より良い処理効果を示した。これらの結果は,シリコンが光合成を強化することができ,光エネルギーと自己代謝を調節し,干ばつによって引き起こされた損害を効果的に軽減することができることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 量子効率 ,  クロロフィル ,  水分 ,  気孔抵抗 ,  干ばつ ,  蒸散 ,  *光合成 ,  ケイ素
準シソーラス用語： 光エネルギー ,  光飽和 ,  暗呼吸 ,  光合成速度 ,  光補償点 ,  光応答 ,  *乾燥ストレス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： silicon ,  drought stress ,  photosynthesis ,  chlorophyll ,  photoresponse

分類 (2件)： 植物に対する影響  (EE04030Z) ,  植物生理学一般  (EH02010Y)

タイトルに関連する用語 (4件)： 光合成 ,  ストレス ,  乾燥ストレス ,  研究