Rakshit T. について
Samsung Advanced Logic Lab, Austin, TX, USA について
Obradovic B. について
Samsung Advanced Logic Lab, Austin, TX, USA について
Wang W.-E. について
Samsung Advanced Logic Lab, Austin, TX, USA について
Kim W.-H. について
imec, Leuven, Belgium について
Shin K.-M. について
imec, Leuven, Belgium について
Baek S.-C. について
imec, Leuven, Belgium について
Lee S.-W. について
imec, Leuven, Belgium について
Kim S.-H. について
imec, Leuven, Belgium について
Lee J.-M. について
imec, Leuven, Belgium について
imec, Leuven, Belgium について
Hoover A. について
Samsung Austin R&D, Austin, TX, USA について
Song W.-B. について
Samsung, Seoul, South Korea について
Cantoro M. について
Samsung, Seoul, South Korea について
Heo Y.-C. について
Samsung, Seoul, South Korea について
Rooyackers R. について
imec, Leuven, Belgium について
Ardila S. C. について
imec, Leuven, Belgium について
Vais A. について
imec, Leuven, Belgium について
imec, Leuven, Belgium について
Collaert N. について
imec, Leuven, Belgium について
Rodder M. S. について
Samsung Advanced Logic Lab, Austin, TX, USA について
IEEE Electron Device Letters について
インジウム について
電圧 について
MOSFET について
不和合性 について
携帯電話 について
ゲート絶縁膜 について
バンドギャップ について
チャネル について
キャラクタリゼーション について
HF【周波数】 について
短チャネル について
注入速度 について
システムオンチップ について
バーストモード について
トランジスタ について
バーストモード について
モバイル について
CPU について
FET について
チャネル について