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J-GLOBAL ID:201702213372739594   整理番号:17A0067347

AL_2O_3薄膜の微細構造と機械的性質に及ぼすHFO_2中間層の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Effects of HfO_2 Interlayer on Microstructure and Mechanical Property of Al_2O_3 Thin Film on MgF_2 Substrate
著者 (5件):
資料名:
巻: 31  号:ページ: 779-784  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2432A  ISSN: 1000-324X  CODEN: WCXUET  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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単層AL_2O_3薄膜とHFO_2中間層を含有するHFO_2/AL_2O_3薄膜を,電子ビーム蒸着によって調製した。空気中で調製した薄膜を1H600°Cでアニールした。膜の微細構造,赤外透過率,および機械的性質を,X線回折(XRD),電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM),FOURIER変換赤外分光法(FTIR),ナノおよびスクラッチによって特性評価した。結果は以下を示す。アニーリング後,HFO_2/AL_2O_3の二層膜は,17.5GPA以上の硬度を有する樹枝状の新しい層を形成した。この高硬度の新しい層は,マグネシウム基質を保護することができない。その結果,GIXRD_2の回折ピークはGIXRDから得られ,一方,AL_2O_3薄膜は非晶質であることが判明した。これらの結果から,HFO_2が非晶質から単斜晶への転移がこの樹枝状晶の生成を促進し,この新しい層が保護膜の機械的性質を向上させることが示唆された。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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塩基,金属酸化物 
タイトルに関連する用語 (5件):
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