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J-GLOBAL ID:201702213523285501   整理番号:17A0365984

単結晶SiCウエハ上に堆積したSi薄膜からの高品質SiCナノワイヤの自己組織化成長【Powered by NICT】

Self-assembly growth of high-quality SiC nanowires from Si thin films deposited on single-crystalline SiC wafers
著者 (8件):
資料名:
巻: 42  号: 16  ページ: 18955-18959  発行年: 2016年 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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最近,良く秩序化したグラフェン層は熱アニーリングによるSiC単結晶の表面上に直接成長させたことを報告した。この現象に基づいて,Siを蒸着したSiCからのSiCナノワイヤの自己組織化成長を実証した。スパッタリングによるSiC単結晶上のSi薄膜の蒸着後,それらはArガス雰囲気下で10h,1200°Cと1400°Cでアニールした。高品質のSiCナノワイヤは1400°CでアニールしたSiを蒸着したSiCの表面上に成長させた,黒鉛状炭素球が1200°Cで形成されただけであるSiC単結晶から発生した炭素原子は膜中に拡散し,SiCナノワイヤの成長のための炭素源として機能した。Si薄膜を熱アニーリング中に酸化され,SiCナノワイヤのSi源と炭素原子の拡散経路の両方として作用した。本研究はSiC上のナノ構造の結晶成長と電界放出とパワーデバイスのような種々の応用のためのSiCベースナノ電子デバイスの作製を前進させるのに役立つと考えられる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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セラミック・陶磁器の製造 

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