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J-GLOBAL ID：201702214039536450   整理番号：17A0309876

ゾル-ゲル法およびスピンコーティングにより作製したCrドープTiO_2薄膜の形態,構造および偏光解析研究【Powered by NICT】

Morphological, structural and ellipsometric investigations of Cr doped TiO₂ thin films prepared by sol-gel and spin coating

著者 (4件)： Bsiri N. (Laboratoire de photovoltaιque, Centre de Recherches et des Technologies de l’Energie, Technopole de Borj-Cedria, BP 95, Hammam-Lif 2050, Tunis, Tunisia) ,  Zrir M.A. (Aix-Marseille Universite, CINAM, Campus de Luminy Case 913, 13288 Marseille, France) ,  Bardaoui A. (Laboratoire de photovoltaιque, Centre de Recherches et des Technologies de l’Energie, Technopole de Borj-Cedria, BP 95, Hammam-Lif 2050, Tunis, Tunisia) ,  Bouaiecha M. (Laboratoire de photovoltaιque, Centre de Recherches et des Technologies de l’Energie, Technopole de Borj-Cedria, BP 95, Hammam-Lif 2050, Tunis, Tunisia)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 42  号： 9  ページ： 10599-10607  発行年： 2016年07月 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々原子百分率(0.5%,1.3%及び2.9%)で純粋およびクロムをドープした二酸化チタン(TiO_2)薄膜を,前駆体としてチタン(IV)イソプロポキシドを用いたゾル-ゲル法とスピンコーティング法によるITO/ガラス基板上に作製した。膜の表面形態を走査電子顕微鏡(SEM)と原子間力顕微鏡(A FM)で調べた,構造をX線回折(XRD),Fourier変換赤外分光法(FTIR)および高分解能透過型電子顕微鏡(HRTEM)によって特性化した。SEMとH RTEMは均一で多結晶膜を示した。XRDパターンはアナターゼ-ルチルへのアナターゼの相転移を示すFTIRスペクトルにおける520cm~約 1TiO_2分子の吸収バンドを拡大をもたらした。屈折率(n),減衰係数(K)およびバンドギャップ(E_g)および膜厚のような光学定数を分光偏光解析法とFourouhi Blommer分散モデルを用いて決定した。結果は三つの主要な変化を示す(i)純TiO_2層の厚さは54nm,層はクロムをドープした場合減少し,2.9%のドーピング濃度で33nmに達する線形である,(ii)Cr添加剤が増加するとバンドギャップエネルギー(E_g)も3.24eVから2.80eVまで直線的に低下し,(iii)アナターゼ-ルチルへのアナターゼからの相転移は350nm以上の波長のためのn(λ)の値の増加を引き起こす観察された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *偏光解析法 ,  *スピンコーティング ,  *クロム ,  バンドギャップ ,  アナターゼ ,  *ドーピング ,  光学定数 ,  ルチル ,  屈折率 ,  *ゾル-ゲル法 ,  *ゲル ,  原子間力顕微鏡
準シソーラス用語： FTIRスペクトル ,  表面形態 ,  二酸化チタン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ゾル-ゲル ,  クロムドープしたTiO_2 ,  Ellipsometry ,  バンドギャップ ,  厚さ ,  光学的性質

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (9件)： ゾル-ゲル法 ,  スピンコーティング ,  作製 ,  Cr ,  ドープ ,  薄膜 ,  形態 ,  偏光解析 ,  研究