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J-GLOBAL ID：201702214607999349   整理番号：17A0702289

細長いナノ複合材料ヒドロゲルからの異方性小角散乱パターンの2次元対分布関数解析【Powered by NICT】

2D pair distribution function analysis of anisotropic small-angle scattering patterns from elongated nano-composite hydrogels

著者 (2件)： Nishi Kengo (Third Institute of Physics-Biophysics, Georg August University, 37077 Goettingen, Germany. [e-mail]) ,  Shibayama Mitsuhiro
資料名： Soft Matter  (Soft Matter)
巻： 13  号： 17  ページ： 3076-3083  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2327A  ISSN： 1744-683X  CODEN： SMOABF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 伸びまたはせん断流のもとでの高分子ナノ複合材料の小角散乱(SAS)は,充填剤による機械的性質の補強効果を調べるための重要な実験方法である。しかし,SASに現れる異方性散乱パターンは非常に複雑で解釈が困難である。代表的な例は,シリカナノ粒子を含む高分子材料の場合に観察された四点散乱パターンであり,その起源については定量分析の欠如のため,未だ議論されている。異方性散乱パターンの解釈における困難さは主に逆格子空間の抽象的性質に起因している。,異方性散乱パターンから評価した直接2次元対分布関数(PDF)に焦点を当てた。はこの方法を適用したシリカナノ粒子(PDAM NPゲル)を含む伸長ポリ(N,N-ジメチルアクリルアミド)ゲル,伸長下での四点散乱パターンを示した。2次元PDFから,細長いPDAM NPゲルに関する詳細な,そして具体的な構造情報,直接付着および均一に分散したシリカナノ粒子のアフィンおよび非アフィン変位,それぞれなどを得た。著者らは,垂直方向中に均一に分散したナノ粒子は伸長中に吸着した高分子層の衝突による変位しないことを提案したが,平行方向ではアフィン方法で移動していた。横圧縮のこの抑制は本研究で四スポットパターンの起源であると仮定した。これらの結果は,本2D PDF解析は,異方性散乱パターンに隠された高分子ナノ複合材料の内部構造への深い洞察を提供するであろうことを示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： ナノ粒子 ,  *小角散乱 ,  高分子 ,  剪断流 ,  *ナノ複合材料 ,  *二次元 ,  *散乱 ,  *ヒドロゲル ,  機械的性質 ,  *異方性
準シソーラス用語： 高分子材料 ,  シリカナノ粒子 ,  非等方性散乱 ,  ポリマナノ複合材料 ,  *対分布関数 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (7件)： ナノ複合材料 ,  ヒドロゲル ,  異方性 ,  小角散乱 ,  2次元 ,  対分布関数 ,  解析