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J-GLOBAL ID:201702216178673065   整理番号:17A0851391

isobutylgermaneを用いたMOCVDによるGaAs(001)基板上に成長させた高効率エピタキシャルGe太陽電池【Powered by NICT】

Highly efficient epitaxial Ge solar cells grown on GaAs (001) substrates by MOCVD using isobutylgermane
著者 (9件):
資料名:
巻: 166  ページ: 127-131  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0513C  ISSN: 0927-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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単一接合Ge太陽電池はエピタキシャルisobutylgermaneを用いた低圧有機金属化学蒸着によりGaAs(001)基板上に成長させた。色々な成長条件が,p型Geエピタキシャル層の1×10~19cm以上~ 3の高いドーピングレベル,少数キャリア収集効率に有害なを低減するために研究した。成長速度を増加させ,不連続ドーピング法を用いることにより,エピタキシャルGe層のp型ドーピングレベルは2×10~18cm~ 3に低下し,正孔移動度は44から162cm~/Vsに増加した。6.72%の高い電力変換効率は,p型Geベース領域における低下したドーピングレベルをもつエピタキシャルGe太陽電池がAM1.5G照射下で達成することができた。5μm厚ベース層をもつエピタキシャルGe太陽電池のスペクトル応答はInGaP/GaAs/Ge三重接合太陽電池に使用するために充分に良好であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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太陽電池 

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