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J-GLOBAL ID：201702216364515436   整理番号：17A0315785

石英基板上のニッケル薄膜の脱ぬれ動力学分子動力学研究【Powered by NICT】

Dewetting dynamics of nickel thin film on alpha-quartz substrate: A molecular dynamics study

著者 (2件)： Maekawa Yuki (Department of Materials Engineering, The University of Tokyo, 7-3-1, Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan) ,  Shibuta Yasushi (Department of Materials Engineering, The University of Tokyo, 7-3-1, Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan)
資料名： Chemical Physics Letters  (Chemical Physics Letters)
巻： 658  ページ： 30-36  発行年： 2016年 
JST資料番号： B0824A  ISSN： 0009-2614  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルファ石英基板上のニッケル薄膜の脱ぬれ動力学を分子動力学シミュレーションにより詳しく調べた。膜厚が増加すると薄膜の自発的脱ぬれ後形態はマルチ液滴,単一液滴と円筒構造から変化した。薄肉円筒構造では,頚部は,Plateau-Rayleigh不安定性による液滴に分解に誘導されるが,厚肉円筒構造は破壊しなかった。核生成とその後の凝固は,サイズ効果,小さな系における核形成の速度論的因子により支配されるによる脱ぬれ後大きな液滴でのみ起こる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 核形成 ,  *薄膜 ,  サイズ効果 ,  膜厚 ,  不安定性 ,  *分子動力学 ,  速度論 ,  液滴 ,  円筒 ,  *ニッケル ,  厚肉円筒 ,  薄肉円筒 ,  分子動力学シミュレーション ,  *脱濡れ ,  *石英基板

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 石英基板 ,  ニッケル ,  薄膜 ,  脱ぬれ ,  動力学 ,  分子動力学 ,  研究