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J-GLOBAL ID：201702216870592270   整理番号：17A0446117

ナノ多孔質シリコン基板上に蒸着した3次元ZnO層のナノ細孔直径依存特性【Powered by NICT】

Nanopore diameter-dependent properties of thin three-dimensional ZnO layers deposited onto nanoporous silicon substrates

著者 (5件)： Tian Ji-Li (Shenzhen Key Laboratory of Advanced materials, Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, PR China) ,  Wang Gui-Gen (Shenzhen Key Laboratory of Advanced materials, Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, PR China) ,  Zhang Hua-Yu (Shenzhen Key Laboratory of Advanced materials, Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, PR China) ,  Han Jie-Cai (Shenzhen Key Laboratory of Advanced materials, Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, PR China) ,  Han Jie-Cai (Center for Composite Materials, Harbin Institute of Technology, Harbin 150080, PR China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 43  号： 6  ページ： 5173-5181  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,50nm100nm wereから種々の細孔直径範囲を有するナノ多孔質シリコン(NPSi)基板を,陽極酸化アルミニウム(AAO)マスクを用いた誘導結合プラズマ(ICP)エッチングにより調製した。薄い三次元(3D)ZnO層は原子層堆積(A LD)を用いて得られたままのNPSi基板上に堆積した。結果はシリコンナノ細孔直径はNPSi基板上に堆積した薄い3D ZnO層の形態,構造,および光学的性質に大きな影響を持つことを示した。シリコンナノ細孔直径が90nmのとき,最適3D形態,結晶性およびルミネセンス性能を有する薄いZnO層が得られた。結果はまた,シリコンナノ細孔直径の増加はNPSi基板形態は破壊されていないことを考えると,3D ZnO層成長に大きく役立つことを明らかにした。これらの研究は,ナノスケール構造と高い発光性能を持つAAO支援3D半導体材料を達成するための重要なガイド役をもたらす。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 結晶度 ,  *細孔 ,  半導体材料 ,  *三次元 ,  光ルミネセンス ,  *ケイ素 ,  *酸化亜鉛 ,  誘導結合プラズマ ,  光学的性質 ,  発光
準シソーラス用語： ナノスケール ,  AAO【酸化物】 ,  *ナノ細孔 ,  *シリコンウエハ ,  *ナノポーラス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 3次元ZnO ,  原子層堆積 ,  ナノ多孔質シリコン基板 ,  ナノ細孔直径 ,  Morphology ,  光ルミネセンス

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (7件)： ナノ多孔質 ,  シリコン基板 ,  蒸着 ,  3次元 ,  ZnO ,  ナノ細孔 ,  直径