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J-GLOBAL ID：201702217430198528   整理番号：17A0731002

レーザ誘起熱電電圧効果を利用して薄膜の異方性係数を測定した。【JST・京大機械翻訳】

Method of Measuring Anisotropy Seeback Coefficient of Thin Film Based on Laser Induced Thermoelectric Voltage Effect

著者 (5件)： Hu Juntao (Institute of Advanced Materials for Photoelectronics, Kunming University of Science and Technology) ,  Li Hongshan (Institute of Advanced Materials for Photoelectronics, Kunming University of Science and Technology) ,  Zu Jie (Institute of Advanced Materials for Photoelectronics, Kunming University of Science and Technology) ,  Zhang Guoyong (University of Science and Technology of China) ,  Zhang Pengxiang (Institute of Advanced Materials for Photoelectronics, Kunming University of Science and Technology)
資料名： Zhongguo Jiguang  (Zhongguo Jiguang)
巻： 36  号： 5  ページ： 1214-1217  発行年： 2009年 
JST資料番号： C5022A  ISSN： 0258-7025  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 半無限物体の加熱に対するレーザの一次元熱伝導モデルを開発した。LA_(0.67)CA_(0.33)MNO_3薄膜の温度変化を,エキシマレーザ照射の下で研究した。ナノ秒レーザの単一パルス照射の下で,薄膜の表面温度は照射時間の平方根に比例した。LA_(0.67_CA_(0.33)MNO_3薄膜)のレーザ誘起の電圧応答信号を適合させることによって,薄膜の時間定数は1.39ΜSであり,膜厚と時間定数との関係を用いて,薄膜の熱拡散係数と深さを計算した。それぞれ,4.5×10(-8)M2/Sと71NMで測定したパルス応答信号の時間定数に基づいて,レーザ誘起電圧の式における薄膜厚さと熱拡散係数のパラメータを単純化し,異方性に(SEEBACK)係数を求める方法を得た。LA_(0.67)CA_(0.33)MNO_3の異方性係数は2.80ΜV/Kであった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： パルス ,  *異方性 ,  膜厚 ,  温度変動 ,  *圧力効果 ,  表面温度 ,  *レーザ ,  エキシマレーザ ,  パルス応答 ,  *薄膜 ,  *電圧 ,  熱伝導
準シソーラス用語： 熱拡散係数 ,  照射時間 ,  *レーザ誘起 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： thin films ,  laser induced voltage ,  seeback coefficient ,  laser induced thermoelectric voltage ,  onedimensional heat conduction

分類 (3件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザ誘起 ,  圧効果 ,  薄膜 ,  異方性 ,  係数