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J-GLOBAL ID：201702218869753990   整理番号：17A0366791

抗生物質耐性細菌とその抗生物質耐性遺伝子の除去のためのUV照射下でのH_2O_2および/またはTiO_2光触媒【Powered by NICT】

H₂O₂ and/or TiO₂ photocatalysis under UV irradiation for the removal of antibiotic resistant bacteria and their antibiotic resistance genes

著者 (10件)： Guo Changsheng (State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Wang Kai (State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Wang Kai (Wuxi SensingNet Industrialization Research Institute, Wuxi 214000, China) ,  Hou Song (State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Wan Li (State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Lv Jiapei (State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Zhang Yuan (State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China) ,  Qu Xiaodong (State Key Laboratory of Simulation and Regulation of Water Cycle in River Basin, and Department of Water Environment, China Institute of Water Resources and Hydropower Research, Beijing 100038, China) ,  Chen Shuyi (Wuxi SensingNet Industrialization Research Institute, Wuxi 214000, China) ,  Xu Jian (State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China)
資料名： Journal of Hazardous Materials  (Journal of Hazardous Materials)
巻： 323  号： PB  ページ： 710-718  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0362A  ISSN： 0304-3894  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 抗生物質耐性菌(ARB)を不活性化すると抗生物質耐性遺伝子(ARGs)の除去は環境へのそれらの広がりを防ぐために非常に重要である。以前の努力は,水溶液とスラッジからのARBとARGを除去するよう取得されてきたが,少数の満足する結果が得られた。TiO_2による光触媒反応は宿主ARB,メチシリン耐性Staphylococcus aureus(MRSA)および緑膿菌内で,mecAとampC,二つのARGを減少させ,それぞれできるかどうかを検討した。ARBとARGの除去に及ぼすH_2O_2とマトリックス効果の添加も調べた。TiO_2薄膜はARB不活性化とARG除去の両方に大きな影響を示した。約4.5 5.0と5.5 5.8対数ARB減少は6と12mJ/cm~2UV_254フルエンス線量下でTiO_2によりそれぞれ達成された。ARGでは,5.8log mecA還元と4.7log ampC減少はTiO_2の存在下で120mJ/cm~2UV_254フルエンス線量で達成された。H_2O_2の添加量の増加は,ARBとARGの除去効率を増強した。結果もTiO_2による光触媒反応したARGsの細胞内と細胞外の両方の型を除去できることを示した。本研究では,ARBの除去と水溶液からのARGsのための潜在的な代替方法を提供した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： スラッジ ,  緑膿菌 ,  フルエンス ,  光触媒反応 ,  マトリックス効果 ,  不活性化 ,  放射線量 ,  *紫外線照射 ,  水溶液 ,  *光触媒
準シソーラス用語： 除去効率 ,  メチシリン耐性 ,  抗生物質耐性菌 ,  *抗生物質耐性遺伝子 ,  *微生物薬物耐性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 抗生物質耐性細菌(ARB) ,  抗生物質耐性遺伝子(ARGs) ,  展望 ,  TiO_2 ,  Removal

分類 (2件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  その他の汚染原因物質  (SB05040W)

タイトルに関連する用語 (5件)： 抗生物質耐性 ,  細菌 ,  抗生物質耐性遺伝子 ,  UV照射 ,  光触媒