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J-GLOBAL ID：201702218893408488   整理番号：17A0605318

金属-酸化物-半導体光電極の反射防止コーティングと局所絶縁破壊

Localized dielectric breakdown and antireflection coating in metal-oxide-semiconductor photoelectrodes

著者 (8件)： JI Li (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  HSU Hsien-Yi (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  LI Xiaohan (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  HUANG Kai (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  ZHANG Ye (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  LEE Jack C. (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  BARD Allen J. (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  YU Edward T. (Univ. Texas at Austin, Texas, USA)
資料名： Nature Materials  (Nature Materials)
巻： 16  号： 1  ページ： 127-131  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： W1364A  ISSN： 1476-1122  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 絶縁体薄膜が保護層として役立つ金属-絶縁体-半導体構造は,腐食を防ぐことができるだけでなく,低抵抗のキャリア輸送を可能にしなければならないので,安定性と効率のトレードオフをもたらす。本研究では,局所絶縁破壊を使用することにより,その絶縁体の二つの役割を分離する方法を示した。本方法は,絶縁体が厚くなるので,安定性が高まり,同時に効率のために要求された低抵抗のキャリア輸送を可能にした。本方法は,SiO₂やAl₂O₃などの酸化物に適用された。さらに,それは,光カソードや光アノードのためのシリコン,III-V化合物および他の光吸収体に適している。厚い金属酸化物層は薄膜反射防止コーティングとして役立ち,光吸収効率を増加させた。

シソーラス用語： *光電極 ,  反射防止膜 ,  絶縁破壊 ,  分解反応 ,  輸送現象 ,  絶縁材料 ,  生産 ,  製造 ,  光電陰極 ,  アノード ,  *MIS構造 ,  *光電気化学反応 ,  絶縁体
準シソーラス用語： 反射防止コーティング ,  水分解 ,  キャリア輸送 ,  水素製造 ,  光アノード ,  光カソード

分類 (2件)： 金属-絶縁体-半導体構造  (BM03085X) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸化物 ,  光電極 ,  反射防止コーティング ,  絶縁破壊