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J-GLOBAL ID：201702219312849706   整理番号：17A0079255

異方性ウェットエッチングによるSi{100}上の様々な形状の角錐の設計と製作

Design and fabrication of differently shaped pyramids on Si{100} by anisotropic wet etching

著者 (3件)： Imaeda Kodai (Department of Micro-Nano Systems Engineering, Nagoya University, Nagoya, Japan) ,  Bessho Katsuhiko (Department of Mechanical Science and Engineering, Nagoya University, Nagoya, Japan) ,  Shikida Mitsuhiro (Department of Frontier Science, Hiroshima City University, Hiroshima, Japan)
資料名： Microsystem Technologies  (Microsystem Technologies)
巻： 22  号： 12  ページ： 2801-2809  発行年： 2016年12月 
JST資料番号： W2056A  ISSN： 0946-7076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究はマスクパターンを単に変えるだけで,同じSi{100}ウェーハ上に異なる形状の角錐,すなわち8面,3面,および菱形ピラミッドを生成することを目標とする。三角ピラミッドは,その頂点が点になり,製造誤差の影響を受けないので,常に尖っているという利点がある。皮膚に深く挿入しも挿入摩擦と傷跡面積が減少するように菱形角錐を設計した。四角錐形成に基づいてSi{100}上に三角形および菱形角錐構造を生成するために,三角形およびH形のエッチングマスクパターンを設計した。TMAH異方ウェットエッチング(25.0wt%,70°C)を適用して,新しいMEMS構造として三角形および菱形角錐を作製した。三角形および菱形のSi角錐の両方で,数百nm以下の半径を有する鋭い先端が得られた。Copyright 2015 Springer-Verlag Berlin Heidelberg Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ケイ素 ,  *ウェットエッチング ,  *角錐 ,  三角形 ,  形態 ,  *微細加工 ,  微細構造
準シソーラス用語： ひし形

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 異方性 ,  ウェットエッチング ,  Si ,  角錐 ,  設計 ,  製作