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J-GLOBAL ID:201702220876650075   整理番号:17A0365114

熱遮蔽材料としてのその場炭素熱反応による自立グラフェン/SiC膜【Powered by NICT】

Free standing graphene/SiC films by in-situ carbothermal reaction as thermal shielding materials
著者 (9件):
資料名:
巻: 109  ページ: 227-232  発行年: 2016年 
JST資料番号: A0495B  ISSN: 0264-1275  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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完全耐アブレーションと機械的性能を用いた効果的な遮熱材料は航空機に罹患した厳しい条件を保護する重要な役割を果たしている。グラフェン酸化物(GO)と原料としてナノシリコン球を用いて,層状Si/GO前駆体膜はろ過により調製し,続いてその場炭素熱還元反応によるSiCとグラフェン(SiC/G膜)の複合膜を得た。得られた材料はサンドイッチ状異方性構造を示し,アブレーション実験で優れた耐アブレーション性能を有する。膜は硬さと弾性率0.56と3.40GPaの高い機械的剛性を示した。に加えて,内外の平面外の熱伝導率はそれぞれ27.98及び0.15 0 23Wm~ 1K~ 1であった。膜では,配向したグラフェンシートは,膜の完全性を保持し,,面内熱散逸効率を改善するために足場をだけでなくした。一方,その場成長したSiC粒子は主要な耐アブレーション機能層,ならびに膜に垂直な熱伝達を抑制する層間スペーサとして作用した。それ故,SiCとグラフェン層で構成されたこの新しいサンドイッチ様構造は多くの分野で多重アブレーション衝撃波からの大きな保護を提供することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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分散強化合金  ,  セラミック・磁器の性質 

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