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J-GLOBAL ID：201702221039793843   整理番号：17A0443471

光応答性エポキシベースネットワークの光誘発された形成【Powered by NICT】

Light triggered formation of photo-responsive epoxy based networks

著者 (11件)： Radl Simone (Polymer Competence Center Leoben GmbH, Roseggerstrasse 12, A-8700 Leoben, Austria) ,  Roppolo Ignazio (Center for Sustainable Futures, Istituto Italiano di Tecnologia, Corso Trento 21, 10129 Torino, Italy) ,  Polzl Karina (Polymer Competence Center Leoben GmbH, Roseggerstrasse 12, A-8700 Leoben, Austria) ,  Ast Markus (Polymer Competence Center Leoben GmbH, Roseggerstrasse 12, A-8700 Leoben, Austria) ,  Spreitz Josef (Aglycon Dr. Spreitz KG, Europapark 1, A-8412 Allerheiligen bei Wildon, Austria) ,  Griesser Thomas (Chair of Chemistry of Polymeric Materials, Montanuniversitaet Leoben, Otto Glockel-Strasse 2, A-8700 Leoben, Austria) ,  Griesser Thomas (Christian Doppler Laboratory for Functional and Polymer based Ink-Jet Inks, Otto Glockel-Strasse 2, A-8700 Leoben, Austria) ,  Kern Wolfgang (Polymer Competence Center Leoben GmbH, Roseggerstrasse 12, A-8700 Leoben, Austria) ,  Kern Wolfgang (Chair of Chemistry of Polymeric Materials, Montanuniversitaet Leoben, Otto Glockel-Strasse 2, A-8700 Leoben, Austria) ,  Schlogl Sandra (Polymer Competence Center Leoben GmbH, Roseggerstrasse 12, A-8700 Leoben, Austria) ,  Sangermano Marco (Department of Applied Science and Technology, Politecnico di Torino, Corso Duca Degli Abruzzi 24, 10129 Torino, Italy)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 109  ページ： 349-357  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 融通性のあるo-ニトロベンジル化学を利用して,本研究ではUV照射に応答して空間的に制御された結合開裂を受けることを光硬化エポキシネットワークの設計を明らかにした。合成戦略は光誘起カチオン開環反応を経由して養生される光に不安定なo-ニトロベンジルエステル(o NBE)リンクを持つエポキシ単量体の調製を含む。二つの異なる光開始系はO NBE基の吸収を妨害しない採用されている。最初の発生機構は,深いUV曝露N ヒドロキシナフタルイミド トリフラートの直接光分解を利用し,第二の機構は可視光照射によりフリーラジカル促進カチオン重合に従った。光分解性エポキシ網目の橋かけと切断動力学を分光学的方法によって特性化した。薄膜では,溶解度のUV誘導増加はゾル-ゲル分析によって確認され,ポジ型フォトレジストの製造のために使用される。パターン化膜はフォトリソグラフィープロセスによって得られ,微視的解析は,レジストは4μmと良好なコントラスト挙動の分解能を提供することを明らかにした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 溶解度 ,  *光分解 ,  開裂反応 ,  レジスト ,  光架橋 ,  コントラスト ,  単量体 ,  紫外線照射 ,  パターン形成 ,  カチオン重合 ,  開環反応
準シソーラス用語： ポジティブフォトレジスト ,  可視光照射 ,  光誘起 ,  *光応答 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： カチオン硬化 ,  エポキシネットワーク ,  光開裂

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

タイトルに関連する用語 (2件)： 光応答 ,  誘発