文献

J-GLOBAL ID：201702221104343768   整理番号：17A0365747

C/C-SiC複合材料の反応性溶浸製造:濡れと浸透【Powered by NICT】

Reactive melt infiltration fabrication of C/C-SiC composite: Wetting and infiltration

著者 (6件)： Tong Yonggang (National Engineering Research Center for Mechanical Product Remanufacturing, Academy of Armored Forces Engineering, Beijing, China) ,  Tong Yonggang (College of Aerospace Science and Engineering, National University of Defense Technology, Changsha, China) ,  Bai Shuxin (College of Aerospace Science and Engineering, National University of Defense Technology, Changsha, China) ,  Liang Xiubing (National Engineering Research Center for Mechanical Product Remanufacturing, Academy of Armored Forces Engineering, Beijing, China) ,  Qin Qing H. (Research School of Engineering, College of Engineering and Computer Science, Australian National University, ACT, Australia) ,  Zhai Jiangtao (School of Electronics and Information, Jiangsu University of Science and Technology, Zhenjiang, China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 42  号： 15  ページ： 17174-17178  発行年： 2016年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性溶融含浸は高性能C/C-SiC複合材料のための迅速で経済的な製造プロセスである。液体シリコンによるC/C-SiC複合材料の反応性溶浸産生を理解を助けるために,液体シリコンによる多孔質C/C複合材料プレホームの濡れと浸透を静滴法を用いて調べた。接触角は時間の増加と共に減少したが,液滴底面直径は増加した。時間の関数として液滴底面直径及び接触角の変化によれば,液体シリコンの界面反応と浸潤に対応する四つの異なる段階は液体シリコンによる多孔質C/C複合材料プレホームの濡れ中に同定された。ぬれ曲線に基づく浸透高さは時間とともに直線的に増加し,Washburn方程式,ケイ素溶浸の反応制御を強く示唆に従って計算した値よりはるかに小さかった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 接触角 ,  C/C複合材料 ,  *反応性 ,  プリフォーム ,  *溶浸 ,  反応制御 ,  ケイ素 ,  *炭化ケイ素 ,  液滴 ,  *濡れ ,  *浸透 ,  多孔性 ,  *複合材料
準シソーラス用語： 界面反応 ,  溶融含浸 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ぬれ ,  Infiltration ,  C/C複合材料プレホーム ,  反応性融液浸透 ,  液体シリコン

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (6件)： SiC ,  複合材料 ,  反応性 ,  溶浸 ,  濡れ ,  浸透