文献

J-GLOBAL ID：201702221921301622   整理番号：17A0705530

レーザ干渉パターン形成による金塩化物をドープした高分子薄膜のその場光還元により作製したナノ粒子格子におけるプラズモン増強回折【Powered by NICT】

Plasmon-enhanced diffraction in nanoparticle gratings fabricated by in situ photo-reduction of gold chloride doped polymer thin films by laser interference patterning

著者 (6件)： Nadal E. (PROMES, CNRS (UPR8521), Rambla de la thermodynamique, 66100, Perpignan, France) ,  Barros N. ,  Glenat H. ,  Laverdant J. ,  Schmool D. S. ,  Kachkachi H.
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 5  号： 14  ページ： 3553-3560  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子薄膜中の金ナノ粒子格子の光誘導in situ合成のための新しい方法を提案した。高分子膜は,金前駆体をドープした,金属イオンの空間的に制御された光還元をもたらす干渉パターンを照射した。ナノ粒子成長を得るのに使われるアニーリング処理膜内の空間的構成を維持した。方法の独創性は,可視範囲における連続低出力レーザー励起,大面積製造プロセスへの道を開くを使用しているという事実に存在する。光学特性の観点から,そのような製作された金ナノ粒子格子をプラズモン増強回折効率を有するプラズモンおよび回折特性の両者を示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 回折効率 ,  *ナノ粒子 ,  *パターン形成 ,  *ドーピング ,  焼なまし ,  *プラズモン ,  *高分子薄膜 ,  レーザ励起 ,  *回折 ,  *金 ,  金属イオン ,  *光還元
準シソーラス用語： 大面積 ,  *干渉パターン ,  金ナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  固体プラズマ  (BM02160W)

タイトルに関連する用語 (13件)： レーザ干渉 ,  パターン形成 ,  金 ,  塩化物 ,  ドープ ,  高分子薄膜 ,  光還元 ,  作製 ,  ナノ粒子 ,  格子 ,  プラズモン ,  増強 ,  回折