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J-GLOBAL ID：201702222953331879   整理番号：17A0364469

直接Zスキームg C_3N_4/Ag_2WO_4光触媒の作製と光触媒活性増強機構【Powered by NICT】

Fabrication and photocatalytic activity enhanced mechanism of direct Z-scheme g-C₃N₄/Ag₂WO₄ photocatalyst

著者 (7件)： Zhu Bicheng (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China) ,  Zhu Bicheng (Department of Science and Environmental Studies The Hong Kong Institute of Education, Tai Po, N.T., Hong Kong, China) ,  Xia Pengfei (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China) ,  Li Yao (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China) ,  Ho Wingkei (Department of Science and Environmental Studies The Hong Kong Institute of Education, Tai Po, N.T., Hong Kong, China) ,  Yu Jiaguo (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China) ,  Yu Jiaguo (Department of Physics, Faculty of Science, King Abdulaziz University, Jeddah 21589, Saudi Arabia)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 391  号： PB  ページ： 175-183  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ここで直接Zスキーム黒鉛状窒化炭素(g C_3N_4)/タングステン酸銀(Ag_2WO_4)光触媒は,担体と銀硝酸塩としてg C_3N_4を用いた前駆体としての簡便なin situ沈殿法で調製した。X線回折,Fourier変換赤外分光法,X線光電子分光法,透過型電子顕微鏡および元素マッピングは,βAg_2WO_4ナノ粒子はC_3N_4ナノシートの表面,βAg_2WO_4の核形成と成長のための担体としての役割を果たす上に均一に分布し,安定なαAg_2WO_4に準安定βAg_2WO_4の相変態を阻害することを示した。光触媒実験はC_3N_4/Ag_2WO_4ナノ複合材料光触媒は,純粋なg C_3N_4とAg_2WO_4メチルオレンジの分解に対してより良好な光触媒活性をdisplaidことを示した。g C_3N_4/Ag_2WO_4の増強された光触媒性能は直接Z-スキーム光触媒機構によって説明することができた。この機構は,光生成電子-正孔対の効率的な空間分離とg C_3N_4/Ag_2WO_4システムの大きな酸化及び還元能力に関連していた。g C_3N_4ベース直接Z-スキーム光触媒の設計と作製への新しい洞察を提供した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線光電子分光法 ,  透過型電子顕微鏡 ,  還元性 ,  沈降分離 ,  銀 ,  ナノ複合材料 ,  X線回折 ,  *光触媒 ,  電子正孔対 ,  ナノ粒子 ,  硝酸塩 ,  *触媒活性 ,  ナノシート
準シソーラス用語： Z-スキーム ,  *光触媒活性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 直接Zスキーム ,  g C_3N_4 ,  βAg_2WO_4 ,  メチルオレンジ ,  Degradation

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

タイトルに関連する用語 (5件)： スキーム ,  光触媒 ,  作製 ,  光触媒活性 ,  増強