文献
J-GLOBAL ID:201702223328342423   整理番号:17A0164336

室温で成長させたAZO/AL_2O_3積層薄膜トランジスタの性能を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Properties of AZO/Al_2O_3 Stacked Thin Film Transistors Prepared at Room Temperature
著者 (15件):
資料名:
巻: 37  号: 11  ページ: 1372-1377  発行年: 2016年 
JST資料番号: W1380A  ISSN: 1000-7032  CODEN: FAXUEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
現在の多くの酸化物薄膜トランジスタに対して、熱アニーリング技術を採用して、その性能を向上させることは、フレキシブルディスプレイに応用することができないという問題を解決するため、室温で作製した新型TFTデバイスを提案し、アニーリング処理なしで良好なデバイス性能が得られる。パルスレーザ蒸着技術によって調製したAZO/AL_2O_3積層構造をチャネルとして用いた。単層AZO-TFTデバイスと比較して,直列TFTデバイスは,より優れた性能を持ち,その移動度は2.27CM2V(-1)S(-1)であり,スイッチング比は1.43×106であった。AZO/AL/AL_2O_3積層薄膜の厚さ、密度、粗さ、相、界面特性及びバンド構造などを分析することにより、この積層構造は電子の運動がAZO薄膜の平面内に制限され、二次元電子転送が形成され、TFTデバイスの性能を向上させることが分かった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る