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J-GLOBAL ID:201702223409210813   整理番号:17A0766836

紫外レーザリフトオフ技術を用いたGaN/サファイア界面の衝撃支援表在性六方晶-立方晶相転移【Powered by NICT】

Shock-Assisted Superficial Hexagonal-to-Cubic Phase Transition in GaN/Sapphire Interface Induced by Using Ultra-violet Laser Lift-Off Techniques
著者 (11件):
資料名:
巻: 26  号:ページ: 212-215  発行年: 2009年 
JST資料番号: W1191A  ISSN: 0256-307X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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紫外(KrFエキシマレーザ,波長248nm)レーザリフトオフ(LLO)技術はGaN/サファイア構造にサファイア基板からGaNを分離した。紫外レーザリフトオフ(UV LLO)により誘起された六方晶から立方晶への相変態を,マイクロRaman分光法,光ルミネセンス,高分解能透過型電子顕微鏡(HRTEM)により特性化した。HRTEMはUV LLO誘起相転移は,レーザリフトオフ界面上に起こり,LLO界面下での相転移のないことを示した。形成された立方晶GaNはバルク六方晶GaN上に担持されたナノ結晶粒として存在することが多い。半ループクラスタ様UV LLO界面はLLO誘導衝撃波を発生させ,六方晶GaNの分解およびLLO表面で立方晶GaN結晶粒の形成における補助的役割を果たしていることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜  ,  半導体のルミネセンス  ,  半導体の結晶成長  ,  原子・分子のクラスタ 

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