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J-GLOBAL ID:201702223781886300   整理番号:17A0375374

カルボキシルアニオンラジカルに基づく高度還元法によるトリクロロ酢酸還元【Powered by NICT】

Trichloroacetic acid reduction by an advanced reduction process based on carboxyl anion radical
著者 (9件):
資料名:
巻: 303  ページ: 56-63  発行年: 2016年 
JST資料番号: D0723A  ISSN: 1385-8947  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ギ酸の存在(FM)におけるTiO_2と組み合わせたUV_254照射はトリクロロ酢酸(TCAA)を分解するカルボキシルアニオンラジカル(CO 2 )をベースにしたプロセスを開発した。TCAA汚染除去の効率と機構を検討し,実用化の可能性は,プロセス変数(FM投与量,溶液pH,温度,HCO3 ,溶存有機物質,及びNO-3-)の影響,残留FMの処理,およびTCAAに関する技術経済を評価することにより評価した。結果はO_2ストリッピングなしでも,UV/TiO_2/fMプロセスはUV/TiO_2/O_2エアレーションプロセスよりも効率的にTCAAを分解することを示した。動力学および形質転換研究は,CO-2-と水和電子(eaq )はC-Cl結合を攻撃によるTCAAの分解に関与していることを示唆した。CO2-前駆体(FM)は,最適添加量を持っていた。冗長性解析は分解効率に及ぼす六変数の影響を温度>FM用量>HCO-3->3->pHのために従わなかったことを示した。残りのFMは活性炭と磁気イオン交換樹脂による吸着で除去できない。経済的評価が最も費用がHO~とeaq (二次ラジカルCO2 の源)のような一次ラジカルの生成したことを明らかにした。,単純,無害で,効率的で,低エネルギー消費のプロセスはハロゲン化汚染物質除去のためのCO2 を生成するために望まれている。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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