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J-GLOBAL ID：201702225751577645   整理番号：17A0365964

真空プラズマ溶射したけい化タングステン皮膜のミクロ組織的特性および酸化挙動【Powered by NICT】

Microstructure characteristics and oxidation behavior of vacuum plasma sprayed tungsten disilicide coating

著者 (8件)： Zhai Cuihong (Research Center of Composite Materials, Shanghai University, Shanghai 200072, China) ,  Zhai Cuihong (Key Laboratory of Inorganic Coating Materials CAS, Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China) ,  Niu Yaran (Key Laboratory of Inorganic Coating Materials CAS, Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China) ,  Huang Liping (Key Laboratory of Inorganic Coating Materials CAS, Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China) ,  Pan Houhua (Key Laboratory of Inorganic Coating Materials CAS, Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China) ,  Li Hong (Research Center of Composite Materials, Shanghai University, Shanghai 200072, China) ,  Zheng Xuebin (Key Laboratory of Inorganic Coating Materials CAS, Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China) ,  Sun Jinliang (Research Center of Composite Materials, Shanghai University, Shanghai 200072, China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 42  号： 16  ページ： 18798-18805  発行年： 2016年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 真空プラズマ溶射,効率的で有効な方法を本研究では二けい化タングステン被覆を作製するために利用されてきた。溶射したままの皮膜の相組成と微細構造特性は,室温から1500°Cまでの熱安定性と酸化挙動と同様に注目されている結果は,コーティングが正方晶WSi_2と少量の正方晶W_5Si_3のから成り,6%未満の多孔度の均一でラメラ構造を示すことを示した。WSi_2コーティングは500°C以下の温度で安定で,800°Cと1200°C混合SiO_2とWO_3の緩いと粗い表面を脱離の間に発生した迅速な酸化であった。1300 1500°Cの温度範囲で優れた耐酸化性は被覆表面上に形成された高密度と統合SiO_2膜で観察された。酸化機構も理論的解析に基づいて議論した,これは異なる温度でWSi_2被覆の酸化過程の強い実例を提供することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *溶射 ,  正方晶系 ,  相組成 ,  *酸化 ,  空隙率 ,  耐酸化性 ,  *皮膜 ,  層状組織 ,  被覆 ,  熱安定性
準シソーラス用語： 酸化機構 ,  高密度 ,  *酸化挙動 ,  *ケイ化タングステン ,  *真空プラズマ溶射 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： WSi_2コーティング ,  真空プラズマ溶射 ,  Microstructure ,  酸化挙動

分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 真空プラズマ溶射 ,  けい化タングステン ,  皮膜 ,  ミクロ組織 ,  酸化挙動