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J-GLOBAL ID:201702226326245628   整理番号:17A0246167

GaN on Siを用いたX帯低損失・高耐電力スイッチ

An X-band Low Loss/High Power Switch Using GaN on Si
著者 (5件):
資料名:
巻: 116  号: 432(MW2016 172-187)  ページ: 53-56  発行年: 2017年01月19日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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GaN on Siを用いた低損失・高耐電力な特性を有するスイッチの試作結果について報告する。本スイッチにはSi基板上にGaN層を形成したGaNonSiを適用している。Si基板は安価であるが,GaNデバイスの基板材料としてよく用いられるSiCに比べ損失が大きいことが課題である。低損失化のために非対称型かつインダクタとFETによる並列共振器構成を用いた回路を適用した高耐電力スイッチを試作,X帯比帯域30%での評価結果として受信時挿入損失1.28dB以下,送信時アイソレーション11.0dB以上,43.1dBm以上のハンドリングパワーを達成し,GaNonSiを用いた場合でも低損失な電気特性を得ることができた。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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継電器・スイッチ 
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