文献
J-GLOBAL ID：201702226543469048
整理番号：17A0742839
FAST/Flashは電場支援焼結の工業的応用に新しい展望を開く
FAST/Flash Opens New Prospects for the Industrial Application of Field-Assisted Sintering
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
-
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=17A0742839&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0067A") }}
著者 (4件)：
,
,
,
資料名：
巻：
93
号：
10
ページ：
E22-E25 (EN),D12-D15 (DE)
発行年：
2016年10月
JST資料番号：
B0067A
ISSN：
0173-9913
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
解説
発行国：
ドイツ (DEU)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
FAST/SAS法(=Field assisted sintering technology)/Spark plasma sintering法)は最小の温度勾配と高い加熱速度での焼結が可能な焼結方法で大面積のユニークな組成と特性の材料を効率的に製造する際にも有効な焼結手段である。この方法では高い電導性の材料では均一な加熱が可能になる。著者の研究によれば多くの電導性が低い半導体セラミック材料(SiC,B
4C,ZrO
2など)でも温度と電場の組み合わせが適切であれば加圧した型の中でFAST/SPS法の利点を享受して粉末を固めることが可能である。著者はこののような特別なFAST/SPS法をFAST/Flash法と名づけた。このFAST/Flash急速焼結法の初期の研究結果を紹介し,その工業的な展望を論じた。
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,
,
,
,
,
,
,
,
,
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,
分類 (1件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
セラミック・陶磁器の製造
タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
,
,
,
,
,
前のページに戻る
