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J-GLOBAL ID：201702227402144341   整理番号：17A0124038

Mo/Si多層膜の界面特性化【Powered by NICT】

Interface characterization of Mo/Si multilayers

著者 (6件)： Zhao Jiaoling (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  He Hongbo (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Wang Hu (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Yi Kui (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Wang Bin (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Cui Yun (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences)
資料名： Zhongguo Guangxue Kuaibao(Yingwenban)  (Zhongguo Guangxue Kuaibao(Yingwenban))
巻： 14  号： 8  ページ： 083401-1-083401-4  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2637A  ISSN： 1671-7694  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 相補的解析技術はこの研究で適用したMo/Si多層膜の界面構造を研究した。試料は,すれすれ入射X線反射率,X線光電子分光法,高分解能透過型電子顕微鏡,及び極端紫外反射率によって特性化した。結果は,層の厚さはMoSi_2を形成することにより界面に小さな拡散と良く制御されていることを示した。界面組成としてMoSi_2を考慮して,著者らの四層モデルの結果をシミュレートする13.5nmで測定した反射率曲線と良く一致した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線光電子分光法 ,  *キャラクタリゼーション ,  *界面 ,  すれすれ入射 ,  極端紫外線 ,  *多層膜 ,  反射率
準シソーラス用語： HRTEM ,  X線反射率 ,  界面構造 ,  *界面特性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： Mo ,  Si ,  多層膜 ,  界面特性