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J-GLOBAL ID：201702227710036072   整理番号：17A0347304

抽出窓をもつ陽子後方散乱を利用した外部ビームPIXE-PIGE分析におけるビーム電荷集積【Powered by NICT】

Beam charge integration in external beam PIXE-PIGE analysis utilizing proton backscattering with an extraction window

著者 (6件)： Xu Ya (College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University) ,  Xu Mi (College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University) ,  Wang Guangfu (College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University) ,  Zheng Chenlong (College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University) ,  Qiu Menglin (College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University) ,  Chu Yingjie (College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University)
資料名： Hejishu(Yingwenban)  (Hejishu(Yingwenban))
巻： 27  号： 6  ページ： 137-1-137-5  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2619A  ISSN： 1001-8042  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,外部ビーム陽子励起X線分析及び陽子誘起クレイ放出(PIXE PIGE)分析におけるビーム電荷の間接的統合のための新しい方法を示した。異なる試料および異なるビーム電流下でKapton膜抽出窓によるプロトンスペクトル後方散乱を記録した。も後方散乱スペクトルプログラム(SIMNRA)のシミュレーションを用いた後方散乱スペクトルをシミュレートした。特定の幾何学的配置における,異なる試料状況は有意にC_Q因子(積分後方散乱陽子数の比と積分ビーム電荷)に影響を及ぼさなかったことを明らかにした。も再現性とC_Q因子のビーム電流依存性を調べた。C_Qの統計的因子は28.95±0.6キロ数/μC/であり,相対標準偏差は2.0%であった。外部ビームPIXE-PIGE分析における,エネルギー領域における積分後方散乱陽子数からのビーム電荷積分を計算することができる。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 陽子スペクトル ,  *後方散乱 ,  原子番号 ,  *帯電 ,  再現性 ,  Q値 ,  粘土 ,  *陽子 ,  積分 ,  *電荷
準シソーラス用語： 電流依存性 ,  散乱スペクトル ,  膜抽出 ,  Kapton ,  ビーム電流 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ビーム電荷集積 ,  外部ビーム ,  PIXE-PIGE ,  プロトン後方散乱

分類 (9件)： 集積回路一般  (NC03161C) ,  放射化学的分析一般  (CC06010J) ,  その他の表面処理  (WC08070F) ,  金属系超伝導体の物性  (BM04022R) ,  X線との相互作用  (BK16030H) ,  非破壊試験  (HB02030F) ,  放射線を利用した診断  (GC04020K) ,  植物の生化学  (EH01050J) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (7件)： 窓 ,  陽子 ,  後方散乱 ,  ビーム ,  PIXE ,  PIGE分析 ,  電荷集積