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J-GLOBAL ID：201702229408177857   整理番号：17A0123883

大電力無線周波数発生器による誘導結合水素プラズマにおける飽和イオン電流密度【Powered by NICT】

Saturation Ion Current Densities in Inductively Coupled Hydrogen Plasma Produced by Large-Power Radio Frequency Generator

著者 (6件)： Wang Songbai (College of Physics and Information Engineering, Fuzhou University) ,  Lei Guangjiu (Southwestern Institute of Physics) ,  Bi Zhenhua (School of Physics and Materials Engineering, Dalian Nationalities University) ,  Ghomi H (Laser and Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University) ,  Yang Size (School of Physics and Mechanical & Electrical Engineering, Xiamen University) ,  Liu Dongping (School of Physics and Mechanical & Electrical Engineering, Xiamen University)
資料名： Dengliziti Kexue he Jishu(Yingwenban)  (Dengliziti Kexue he Jishu(Yingwenban))
巻： 18  号： 9  ページ： 907-911  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2608A  ISSN： 1009-0630  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大出力(2 32 kW)無線周波数(RF)発生器によって生成された水素誘導結合プラズマ(ICP)における飽和イオン電流密度(J(イオン))の実験的研究を報告し,いくつかの合理的な説明を与えた。RF電力の増加と共に,実験結果は三段階:第一段階(2 14 kW)における,電子温度はICP中のRF出力の増加と共に上昇する,J(イオン)は連続的に増加した電子温度はICPの上昇を示した。第二段階(14 20 kW)では,いくつかのH イオンは相互中性化(MN)に導くので,J(イオン)変動最初減少の勾配はその後増加した。H イオンの破壊におけるICP結果における第三段階(20 32 kW),電子脱離(ED)および会合脱離(AD)では,第三段階におけるJ(イオン)の増加した振幅が第一段階でのものより弱かった。さらに,等価変圧器モデルを用いて,ICPにおける半径方向のいろいろな位置におけるJ(イオン)が同じ規則を持つことを説明することに成功した。最後に,J(イオン)は外部/内部Pu±ngガス圧力比,水素分子の高速移動に起因すると何の関係も持たないことが分かった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 誘導結合プラズマ ,  *イオン電流 ,  脱着 ,  *イオン ,  *電力 ,  *電磁結合 ,  高速度 ,  中性化 ,  半径方向 ,  電子温度 ,  電子脱離
準シソーラス用語： *再生器 ,  *無線周波数 ,  *水素プラズマ ,  *ワイヤレス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 飽和イオン電流密度 ,  出力RF発生器 ,  外部/内部Pu±ngガス圧力比 ,  水素イオン ,  変圧器モデル

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 大電力 ,  無線周波数 ,  発生器 ,  誘導結合 ,  水素プラズマ ,  飽和 ,  イオン ,  電流密度