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J-GLOBAL ID：201702231807681918   整理番号：17A0271944

軟X線小角散乱を用いたマルチフェロイックCu₂OSeO₃における電場誘起スキルミオンらせん磁性転移の観測

著者 (13件)： 岡村嘉大 (東大 大学院工学系研究科) ,  山崎裕一 (東大 大学院工学系研究科) ,  山崎裕一 (理研 創発物性科学研究セ) ,  森川大輔 (理研 創発物性科学研究セ) ,  本田孝志 (高エネルギー加速器研究機構 物質構造科研) ,  中尾裕則 (高エネルギー加速器研究機構 物質構造科研) ,  村上洋一 (高エネルギー加速器研究機構 物質構造科研) ,  関真一郎 (理研 創発物性科学研究セ) ,  賀川史敬 (理研 創発物性科学研究セ) ,  有馬孝尚 (理研 創発物性科学研究セ) ,  有馬孝尚 (東大 大学院新領域創成科学研究科) ,  十倉好紀 (東大 大学院工学系研究科) ,  十倉好紀 (理研 創発物性科学研究セ)
資料名： KEK Progress Report (Web)  (KEK Progress Report (Web))
号： 2016-8  ページ： ROMBUNNO.170 (WEB ONLY)  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： U0583A  ISSN： 1344-6320  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (8件)： 軟X線 ,  小角散乱 ,  マルチフェロイック ,  電場 ,  誘起 ,  スキルミオン ,  らせん磁性 ,  観測