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J-GLOBAL ID：201702231950050267   整理番号：17A0323753

低温処理の減少した水蒸気透過速度とフレキシブル基板上のゾル-ゲル誘導酸化チタン薄膜【Powered by NICT】

Reduced water vapor transmission rates of low-temperature-processed and sol-gel-derived titanium oxide thin films on flexible substrates

著者 (10件)： Park Seonuk (POSTECH Organic Electronics Laboratory, Polymer Research Institute, Department of Chemical Engineering, Pohang University of Science and Technology, Pohang 790-784, Republic of Korea) ,  Kim Lae Ho (POSTECH Organic Electronics Laboratory, Polymer Research Institute, Department of Chemical Engineering, Pohang University of Science and Technology, Pohang 790-784, Republic of Korea) ,  Jeong Yong Jin (POSTECH Organic Electronics Laboratory, Polymer Research Institute, Department of Chemical Engineering, Pohang University of Science and Technology, Pohang 790-784, Republic of Korea) ,  Kim Kyunghun (POSTECH Organic Electronics Laboratory, Polymer Research Institute, Department of Chemical Engineering, Pohang University of Science and Technology, Pohang 790-784, Republic of Korea) ,  Park Min (Department of Energy Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Republic of Korea) ,  Baek Yonghwa (POSTECH Organic Electronics Laboratory, Polymer Research Institute, Department of Chemical Engineering, Pohang University of Science and Technology, Pohang 790-784, Republic of Korea) ,  An Tae Kyu (Department of Polymer Science & Engineering, Korea National University of Transportation, 50 Daehak-Ro, Chungju 27469, Republic of Korea) ,  Nam Sooji (Information Control Device Section, Electronics and Telecommunications Research Institute, Daejeon 305-700, Republic of Korea) ,  Jang Jaeyoung (Department of Energy Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Republic of Korea) ,  Park Chan Eon (POSTECH Organic Electronics Laboratory, Polymer Research Institute, Department of Chemical Engineering, Pohang University of Science and Technology, Pohang 790-784, Republic of Korea)
資料名： Organic Electronics  (Organic Electronics)
巻： 36  ページ： 133-139  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1352A  ISSN： 1566-1199  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 改良されたバリア特性を有するゾル-ゲル法,無亀裂,および凝縮TiO_x薄膜を低温での簡単な二段階熱処理による高分子基板上に作製することに成功した。TiO_x薄膜のバリア特性を評価するために,Ca腐食試験を行い,それらの水蒸気透過率(WVTR)を測定した。二段階熱処理(90分と110°C,45°C60分)は被覆した高分子基板のWVTRを減少させる実質的に最密充填TiO_x構造を生成することを見出した。90%の相対湿度(RH)でポリエチレンナフタレート(PEN)基板上に厚さ86nmのTiOx薄膜のWVTRは,25°Cで38°Cと0.0387g m~ 2日~ 1で0.133g m~ 2日~ 1であることが分かった。さらに,PEN基板上のTiO_x薄膜のWVTR値は曲げに関して安定で,半径20mmによる曲げの100反復後にのみ~13%増加することが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 腐食試験 ,  ゾル-ゲル法 ,  *ゲル ,  *低温 ,  *フレキシブル基板 ,  熱処理 ,  凝縮 ,  カルシウム ,  相対湿度 ,  *薄膜
準シソーラス用語： 最密充填 ,  高分子基板 ,  *ゾル-ゲル ,  *水蒸気透過速度 ,  *低温処理 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ゾル-ゲル ,  TiO_x膜 ,  WVTRs ,  高分子基板 ,  Ca腐食試験

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  トランジスタ  (NC03070N)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低温処理 ,  水蒸気透過速度 ,  フレキシブル基板 ,  ゾル-ゲル ,  誘導 ,  酸化チタン薄膜