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J-GLOBAL ID：201702232178589451   整理番号：17A0159176

ナノはサブ波長構造PI減少反射膜を作製した。【JST・京大機械翻訳】

Sub-wavelength structure Polyimide anti-reflection film with the technique of nano-imprint lithography (NIL)

著者 (4件)： Tian Li (School of Astronautics,Harbin Institute of Technology) ,  Mao Zhiqiang (School of Astronautics,Harbin Institute of Technology) ,  Wu Min (Shanghai Solar Energy Research Center) ,  Wang Wei (School of Astronautics,Harbin Institute of Technology)
資料名： Harbin Gongye Daxue Xuebao  (Harbin Gongye Daxue Xuebao)
巻： 48  号： 10  ページ： 66-70  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1450A  ISSN： 0367-6234  CODEN： HPKYAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： フレキシブル基板太陽電池の光電変換効率を向上させ,表面反射損失を減少させるために,サブ波長構造の反射膜のサイズパラメータを,TRACEPRO光学シミュレーションソフトウェアを用いて設計し,そして,シミュレーション結果は,ナノピラーの高さが72NM,デューティサイクルが0.5であることを示した。格子周期が300~440NMの場合、光束増強効果が最も良かった。ナノ技術を用いて、多孔性構造陽極酸化アルミニウムをテンプレートとして、ポリイミドベースの反射反射膜を作製した。走査電子顕微鏡と紫外-可視分光光度計を用いて、陽極酸化技術で作製したAL_2O_3テンプレートとそのナノ技術などのプロセスパラメータがPI薄膜の透過率に与える影響を研究した。試験結果により,0.3MOL/Lのシュウ酸溶液中,70Vの一定圧力で1時間連続反応させることにより,AAOテンプレートを調製し,280°C,800KGの圧力条件下で,10分間の浸漬時間で,PI膜を得た。AM1.5大気条件下で,UV-VIS透過スペクトルは440~1000NMの範囲にあり,膜の透過率は元のPI膜の2%~5%増加した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 透過率 ,  多孔性 ,  アノード酸化 ,  フレキシブル基板 ,  プロセスパラメータ ,  光束 ,  太陽電池 ,  走査電子顕微鏡 ,  *ナノテクノロジー
準シソーラス用語： 透過スペクトル ,  紫外可視分光光度計 ,  デューティサイクル ,  ナノピラー ,  光電変換効率 ,  *サブ波長構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： sub-wavelength structure ,  antireflection films ,  nano imprint lithography (NIL) ,  polyimide (PI) ,  anodic oxidation

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： サブ波長構造 ,  pI ,  作製