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J-GLOBAL ID：201702232418984836   整理番号：17A0259436

マイクロフォトニック構造の調製におけるホログラフィックリソグラフィーの応用を紹介した。【JST・京大機械翻訳】

Application Progress of Holographic Lithgraphy in Fabrication of Micro-Nano Photonic Structures

著者 (5件)： Wang Xia (College of of Mathematics and Physics, Qingdao University of Science and Technology, Advanced Optoelectronic Materials and Technologies Engineering Laboratory of Shandong) ,  Lu Hao (College of of Mathematics and Physics, Qingdao University of Science and Technology, Advanced Optoelectronic Materials and Technologies Engineering Laboratory of Shandong) ,  Zhao Qiuling (College of of Mathematics and Physics, Qingdao University of Science and Technology, Advanced Optoelectronic Materials and Technologies Engineering Laboratory of Shandong) ,  Zhang Shuaiyi (College of of Mathematics and Physics, Qingdao University of Science and Technology, Advanced Optoelectronic Materials and Technologies Engineering Laboratory of Shandong) ,  Tam Wingyin (Physics Department, Hong Kong University of Science and Technology)
資料名： Guangpuxue yu Guangpu Fenxi  (Guangpuxue yu Guangpu Fenxi)
巻： 36  号： 11  ページ： 3461-3469  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2093A  ISSN： 1000-0593  CODEN： GYGFED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： マイクロ-フォトニック構造の研究は,フォトニクス,半導体物理学および微細加工技術の発展に伴い,徐々に発展し,そして,その構造,理論,および製造技術において,一連の進展が得られた。現在のマイクロ加工技術のレベルでは、大規模、高品質のフォトニック材料の作製には依然として一定の挑戦が存在している。レーザホログラフィー技術は,迅速かつ迅速な微細構造作製技術として広く用いられている,大きな面積のシリコン材料とフォトニック結晶テンプレートを製造するための重要な手段となっている。本論文では,ホログラフィックフォトリソグラフィーの原理を紹介し,三次元面心立方,木構造,ダイヤモンド構造,フォトニック結晶,光学的周期的欠陥,キラル超材料,周期的欠陥構造などのマイクロ-フォトニック構造における応用に関する研究進展を詳細に紹介した。フォトリソグラフィーは,フォトニック材料のより多くの分野での応用のための基礎と方法を提供する。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 三次元 ,  生産技術 ,  木構造 ,  マイクロマシニング ,  *フォトリソグラフィー ,  ケイ素 ,  フォトニック結晶
準シソーラス用語： 欠陥構造 ,  ダイヤモンド型構造 ,  作製技術 ,  高品質 ,  微細加工技術 ,  フォトニクス ,  *ホログラフィックリソグラフィー ,  *フォトニック構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Micro-nano photonic structures ,  Holographic lithography ,  Photonic crystals ,  Metamaterial

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： フォトニック構造 ,  調製 ,  ホログラフィックリソグラフィー ,  応用