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J-GLOBAL ID：201702232425325838   整理番号：17A0096624

非金属基材無電解めっきプロセスの研究進展【JST・京大機械翻訳】

Research progress of activation processes for electroless plating on nonmetal substrates

著者 (4件)： Jia Zhigang (School of Chemistry and Chemical Engineering, Harbin Institute of Technology) ,  Kong Delong (School of Chemistry and Chemical Engineering, Harbin Institute of Technology) ,  Li Deyu (School of Chemistry and Chemical Engineering, Harbin Institute of Technology) ,  Li Ning (School of Chemistry and Chemical Engineering, Harbin Institute of Technology)
資料名： Diandu yu Tushi  (Diandu yu Tushi)
巻： 35  号： 16  ページ： 866-872  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1499A  ISSN： 1004-227X  CODEN： DYTUEM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 非金属基材の無電解めっき(前,パラジウム,およびイオン)を含む無電解めっき(前),パラジウム活性化(主に,コロイド,イオン),および他の活性化プロセス(レーザ放射活性化法,気相堆積活性化)の研究進展をレビューした。異なる活性化プロセスの利点と欠点を要約し,非金属無電解めっきプロセスの開発動向を予測した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： レーザビーム ,  パラジウム ,  気相 ,  コロイド ,  *無電解めっき
準シソーラス用語： 開発動向 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： nonmetal ,  electroless plating ,  activation ,  palladium ,  non-noble metal

分類 (1件)： 無電解めっき  (WC08024S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 金属基材 ,  無電解めっき ,  プロセス ,  研究 ,  進展