文献

J-GLOBAL ID：201702232567769672   整理番号：17A0315725

骨格としての{Mo_72Fe_30}(DODMA)_3錯体の巨大ベシクルの自己パターン形成多孔質膜【Powered by NICT】

Self-patterning porous films of giant vesicles of {Mo₇₂Fe₃₀}(DODMA)₃ complexes as frameworks

著者 (3件)： Sun Hong (Key Laboratory of Colloid and Interface Chemistry and Key Laboratory of Special Aggregated Materials, Shandong University, Ministry of Education, Jinan 250100, PR China) ,  Yang Qiao (Key Laboratory of Colloid and Interface Chemistry and Key Laboratory of Special Aggregated Materials, Shandong University, Ministry of Education, Jinan 250100, PR China) ,  Hao Jingcheng (Key Laboratory of Colloid and Interface Chemistry and Key Laboratory of Special Aggregated Materials, Shandong University, Ministry of Education, Jinan 250100, PR China)
資料名： Advances in Colloid and Interface Science  (Advances in Colloid and Interface Science)
巻： 235  ページ： 14-22  発行年： 2016年 
JST資料番号： B0923A  ISSN： 0001-8686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2,5nm直径,ポリオキソ金属酸塩(POM)クラスタ{Mo_72Fe_30}巨大アニオンによって形成された巨大ベシクル,CHCl_3 CH_3OH混合溶媒(V_CHCl3:V_CH3OH=3:1)における二本鎖陽イオン界面活性剤ジメチルジステアリルアンモニウムブロミド(DODMABr)から成る自己パターニング多孔質膜の調製と性質を述べた。有機溶液中の0.45~1.3μmの範囲と{Mo_72Fe_30}(DODMA)3錯体の巨大小胞からなる多孔質膜の直径を有するこれら逆ベシクルを,SEM,TEM,XPSおよびA FM観察によって特性化した。フレームワークを,最初に詳細に研究されている固体表面上の高度に秩序化されたハニカム膜は多孔質膜中へのこれらの巨大小胞の自己パターン形成は乾燥に耐えることができる。水接触角測定から,{Mo_72Fe_30}(DODMA)3小胞の多孔質膜は親水性表面から疎水性を付与したことを証明した。巨大小胞からなるこの多孔性膜材料は光電気化学,滅菌,テンプレート,触媒,その場合成のような多くの分野で有望な新しい選択肢である可能性がある。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 親水性 ,  滅菌 ,  キャラクタリゼーション ,  *パターン形成 ,  疎水性 ,  多孔性 ,  光電気化学 ,  陽イオン界面活性剤 ,  *ベシクル ,  その場合成 ,  水接触角 ,  固体表面 ,  混合溶媒 ,  ポリオキソメタレート ,  *多孔質膜

著者キーワード (5件)： 多孔質膜 ,  巨大小胞 ,  自己組立 ,  {Mo_72Fe_30} ,  DODMABr

分類 (2件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  生体膜一般  (EF04010G)

タイトルに関連する用語 (6件)： 骨格 ,  錯体 ,  ベシクル ,  自己 ,  パターン形成 ,  多孔質膜