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J-GLOBAL ID：201702232911793706   整理番号：17A0171856

光学加工高周波イオン源の除去関数と安定性研究【JST・京大機械翻訳】

Removal Function and Stability Study of RF Ion Source for Optics Figuring

著者 (5件)： Chen Guiyang (College of Mechatronics and Automation,National University of Defense Technology) ,  Xie Xuhui (College of Mechatronics and Automation,National University of Defense Technology) ,  Zhou Lin (College of Mechatronics and Automation,National University of Defense Technology) ,  Lu Ying (国防科学技術大学机電工程与自動化学院) ,  Dai Zuocai (国防科学技術大学机電工程与自動化学院)
資料名： Hangkong Jingmi Zhizao Jishu  (Hangkong Jingmi Zhizao Jishu)
巻： 52  号： 5  ページ： 19-22,40  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2915A  ISSN： 1003-5451  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： RFイオン源の構造,作動原理,および性能を研究することによって,光学的鏡面研磨イオンビームの除去効率と安定性試験を実施した。実験結果によると、RF源の除去関数の形状は回転形であり、Φ15MMのグリッドを利用して、標的が30MM、イオンエネルギーが900EVの時、除去関数のピーク除去率は194NM/MINである。体積の除去率は19.2×10(-3)MM3/MINであり,そして,ピーク値は9.2MMであった。さらに,除去率のピーク値と体積除去率の変化は3%以内であり,ピーク値の変化は1.7%以内であった。そのため、高周波イオン源は光学鏡の研磨加工に必要な除去効率があり、しかも高周波イオン源は良好な安定性があり、光学加工の潜在力がある。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオンビーム ,  *HF【周波数】 ,  ピーク値 ,  研磨 ,  *イオン源
準シソーラス用語： 除去率 ,  イオンエネルギー ,  除去効率 ,  鏡面 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： radio frequency ion source ,  removal function ,  optics figuring ,  stability

分類 (1件)： 研削  (QC03000R)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光学 ,  イオン源 ,  関数 ,  安定性 ,  研究