文献

J-GLOBAL ID：201702234954061754   整理番号：17A0733654

VHF-PECVDによって調製した微結晶シリコン薄膜の微細構造を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Study on the Microstructure of Microcrystalline Silicon Thin Films by VHF-PECVD

著者 (4件)： ZHANG Li-wei (Xinxiang University) ,  YU Ze-tong (School of Mechanical and Electronics,Henan Institute of Science and Technology) ,  YANG Gen (School of Physical Engineering, Zhengzhou University) ,  LU Jing-xiao (School of Physical Engineering, Zhengzhou University)
資料名： Rengong Jingti Xuebao  (Rengong Jingti Xuebao)
巻： 38  号： 1  ページ： 231-234  発行年： 2009年 
JST資料番号： W0398A  ISSN： 1000-985X  CODEN： RJXUEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 異なる堆積時間をもつ微結晶シリコン薄膜を,ガラス基板上に,高周波プラズマ化学蒸着(VHF-PECVD)によって調製した。薄膜の微細構造をRAMAN散乱分光法,X線回折(XRD),原子間力顕微鏡(AFM)により調べた。研究結果は以下を示す。堆積時間の延長とともに,膜の粒度は成長し,そして,膜の粒度は,急速に増加し,そして,徐々に飽和した。その微細構造は「非結晶相→非晶質/微結晶混合相→→相」の進化過程を経ている。本実験で調製した用いるは(111)を最適化配向とした。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 粒度 ,  *微細構造 ,  散乱 ,  *プラズマCVD ,  高速度 ,  X線回折 ,  *微結晶 ,  非晶質 ,  HF【周波数】 ,  最適化 ,  原子間力顕微鏡 ,  *薄膜 ,  ガラス基板 ,  *シリコン薄膜 ,  改変
準シソーラス用語： 混合相 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： microcrystalline silicon thin film ,  microstructure ,  micromorphology

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 調製 ,  微結晶 ,  シリコン薄膜 ,  微細構造 ,  研究