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J-GLOBAL ID:201702235040717659   整理番号:17A0311827

金属有機分解により作製したZnドープNa_0 5Bi_0 5TiO_3薄膜の微細構造,漏れ電流と誘電同調性に及ぼす前駆体溶液濃度の影響【Powered by NICT】

Influence of precursor solution concentration on the microstructure, leakage current and dielectric tunability of Zn-doped Na0.5Bi0.5TiO3 thin films prepared by metal organic decomposition
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巻: 42  号: 10  ページ: 12033-12037  発行年: 2016年08月 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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ZnドープNa_0 5Bi_0 5TiO_3(Zn: NBT)薄膜を有機金属分解法により種々の濃度(0.08,0.20および0.35M)の前駆体溶液から調製した。結晶化と電気的性質に及ぼす前駆体溶液のモル濃度の影響を調べた。すべての膜は多結晶ペロブスカイト構造を示した。濃度の減少と共に支配的な(110)配向の増加の程度は,溶液の高希釈に起因し,局所的結晶粒に及ぼす結晶粒成長をもたらした。他の膜と比較して,0.20M膜は結晶性と絶縁特性の改善により,印加電圧に対する誘電定数の強い非線形依存性を示した。0.20M膜の誘電同調率に及ぼす印加電圧の効果を議論した。36.8%の高い同調性とZn:NBT膜における7.4の性能指数は,±16Vと100kHzで観測することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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