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J-GLOBAL ID:201702235293761301   整理番号:17A0075611

超音波によるスケールイオンへの影響とスケール防止性能【JST・京大機械翻訳】

Effects of Ultrasound on Silicon Scale Ions and Antiscaling Performance
著者 (4件):
資料名:
巻: 32  号:ページ: 366-372  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2009A  ISSN: 1001-7631  CODEN: HFGGEU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
抄録/ポイント:
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三成分フラッディング技術の応用は油田のパイプラインと設備に深刻な汚損現象をもたらし、サンプルはケイ酸塩スケールを主とする。超音波のスケール防止機構を簡単に説明し,飽和溶液中のケイ酸塩イオンの濃度に対する実験結果を比較することにより,ケイ酸塩のイオン濃度に対する影響を調べ,スケール防止性能を検討した。結果は以下を示す。濾過液と非濾過液体の間には,イオンの濃度の差異が存在し,溶液中に微結晶が存在することを証明した。同時に,二重超音波の低周波数は,スケールの防除効果に優れていた。X線回折(XRD)と走査型電子顕微鏡(SEM)の結果によると、超音波はスケールの微結晶への転化を抑制し、誘導期を遅延させ、微結晶の重合を抑制し、スケーリング速度を大幅に低下させることができる。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
著者キーワード (4件):
分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  半導体のルミネセンス 
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