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J-GLOBAL ID：201702235469081016   整理番号：17A0699161

低温原子層堆積した酸化亜鉛膜の厚さに依存した成長【Powered by NICT】

Thickness dependent growth of low temperature atomic layer deposited zinc oxide films

著者 (6件)： Montiel-Gonzalez Z. (Instituto de Energias Renovables, Universidad Nacional Autonoma de Mexico, Temixco, Morelos 62580, Mexico) ,  Montiel-Gonzalez Z. (CONACYT-Centro de Investigacion en Materiales Avanzados S.C., Unidad Monterrey, PIIT, Apodaca, Nuevo Leon 66628, Mexico) ,  Castelo-Gonzalez O.A. (Instituto de Energias Renovables, Universidad Nacional Autonoma de Mexico, Temixco, Morelos 62580, Mexico) ,  Aguilar-Gama M.T. (Instituto de Energias Renovables, Universidad Nacional Autonoma de Mexico, Temixco, Morelos 62580, Mexico) ,  Ramirez-Morales E. (Instituto de Energias Renovables, Universidad Nacional Autonoma de Mexico, Temixco, Morelos 62580, Mexico) ,  Hu H. (Instituto de Energias Renovables, Universidad Nacional Autonoma de Mexico, Temixco, Morelos 62580, Mexico)
資料名： Applied Thermal Engineering  (Applied Thermal Engineering)
巻： 114  ページ： 1145-1151  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0667B  ISSN： 1359-4311  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化亜鉛膜は電子デバイスの性能を改善するための有望な,有機材料に基づくものを含んでいた。しかし,調製条件にZnO特性の依存性は,特定の用途を満足する均質な薄膜を得るための挑戦である。ここでは,比較的低い温度150°Cと175°Cでの原子層堆積(A LD)により広い範囲の厚さのZnO膜を作製した。X線光電子分光法,X線回折および分光学的偏光解析法の結果から,ウルツ鉱型の多結晶構造はA LD試料の主相,それらの表面上のOH基であると結論した。偏光解析法は温度と堆積サイクルは,膜粗さに強い影響を持つことを明らかにした。走査電子顕微鏡写真は,そのような効果を証明し,膜の表面で開発された大ピラミッド。は広い範囲の厚さと粗さの結晶性ZnO薄膜を光またはオプトエレクトロニクス応用のための得られることを結論した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 多結晶 ,  走査電子顕微鏡 ,  X線回折 ,  オプトエレクトロニクス ,  ヒドロキシ基 ,  有機材料 ,  角錐 ,  *酸化亜鉛 ,  温度依存性 ,  偏光解析法 ,  薄膜 ,  結晶度 ,  X線光電子分光法
準シソーラス用語： 分光偏光解析法 ,  電子素子 ,  *ALCVD , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 原子層堆積 ,  酸化亜鉛薄膜 ,  厚さに依存した成長 ,  分光偏光解析法

分類 (2件)： 相変化を伴う熱伝達  (PA02040V) ,  対流・放射熱伝達  (PA02030K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低温 ,  原子層堆積 ,  酸化亜鉛 ,  厚さ ,  成長