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J-GLOBAL ID：201702236190547835   整理番号：17A0373449

C_f/LAS composites/AgCuTi/TC4ろう付継手の形成に及ぼすプロセスパラメータの影響【Powered by NICT】

Effect of processing parameters on the formation of C_f/LAS composites/AgCuTi/TC4 brazed joint

著者 (8件)： Liu Duo (Shandong Provincial Key Laboratory of Special Welding Technology, Harbin Institute of Technology at Weihai, Weihai 264209, China) ,  Niu Hongwei (Shandong Provincial Key Laboratory of Special Welding Technology, Harbin Institute of Technology at Weihai, Weihai 264209, China) ,  Liu Jihou (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Song Xiaoguo (Shandong Provincial Key Laboratory of Special Welding Technology, Harbin Institute of Technology at Weihai, Weihai 264209, China) ,  Song Xiaoguo (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Xia Long (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology at Weihai, Weihai 264209, China) ,  Feng Jicai (Shandong Provincial Key Laboratory of Special Welding Technology, Harbin Institute of Technology at Weihai, Weihai 264209, China) ,  Feng Jicai (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
資料名： Materials Characterization  (Materials Characterization)
巻： 120  ページ： 249-256  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0448C  ISSN： 1044-5803  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： C_f/LAS複合材料を真空ろう付によるAgCuTi充填剤をTC4合金に接合することに成功した。TC4/C_f/LAS複合材料継手の界面ミクロ組織を走査型電子顕微鏡(SEM),エネルギー分散分光(EDS),X線回折(XRD)と透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて特性化した。薄い界面反応層(TiSi_2+TiC層)の決定は,TEMにより実現した。界面ミクロ組織及びせん断強さに及ぼす保持時間の影響を調べた。保持時間を用いて,拡散層,Ti_3Cu_4層,およびTiSi_2+TiC層の厚さは明らかに増加し,逆に,TiCu金属間化合物層のそれは徐々に減少した。に加えて,継手は890°Cで20分間ロウ付けされた場合,塊状Ti_3Cu_4相は粗大化し,これは,継手の機械的特性を劣化させた。TC4/C_f/LAS複合材料継手の界面進化とTiSi_2,TiC,Ti_3Cu_4,TiCuおよびTi_2Cu相の形成を調べた。10分間890°Cでろう付した場合,26.4MPaの最大剪断強さが得られた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 界面 ,  *ろう付 ,  X線回折 ,  複合材料 ,  保持時間 ,  走査電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  真空ろう付 ,  拡散層 ,  エネルギー散逸 ,  *ろう付継手 ,  剪断強さ ,  金属間化合物 ,  *プロセスパラメータ
準シソーラス用語： 界面反応 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： C_f/LAS複合材料 ,  TC4合金 ,  保持時間 ,  微細構造進化 ,  せん断強度

分類 (1件)： ろう付  (WC07050C)

タイトルに関連する用語 (4件)： LAS ,  TC4 ,  ろう付継手 ,  プロセスパラメータ