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J-GLOBAL ID：201702236555740710   整理番号：17A0364773

低コストレーザ印刷可能なフォトマスク:一段階フォトレジストフリー,完全溶液処理した高悪性度フォトリソグラフィーマスク【Powered by NICT】

Low-cost laser printable photomask: One-step, photoresist-free, fully solution processed high-grade photolithography mask

著者 (4件)： Yun Jinho (Department of Mechanical Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology, Daejeon 305-701, Republic of Korea) ,  Kim Jongsu (Mask Development Team, Samsung Electronics Co. Ltd, Hwaseong 445-701, Republic of Korea) ,  Yang Minyang (Department of Mechanical Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology, Daejeon 305-701, Republic of Korea) ,  Kang Bongchul (Department of Mechanical System Engineering, Kumoh National Institute of Technology, Gumi 730-701, Republic of Korea)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 394  ページ： 466-471  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 現在のマイクロエレクトロニクスの短寿命サイクルのために,フォトマスク作製の従来の方法は,フォトリソグラフィーの敏捷性と生産性を改善するために交換する必要がある。これらの要求を満たすために,筆者らは,高悪性度フォトマスクの完全溶液ベース一段階調製法を示唆し,フォトレジスト,真空蒸着,エッチングプロセスを使用しない。フォトマスクは,低コスト粒子有機金属溶液からのin-situ合成した光触媒ハイブリッド複合体のレーザ誘起瞬間熱化学メタライゼーションで作製した。この反応は1μm以下,自己生成再帰反射構造,および優れた光学表面の高い選択性は,真空蒸着により作製したマスクのそれに匹敵するマスキング層が得られた。添加では,プロセスの複雑さは,すべての構成層の溶液堆積のために最小化した。一連の評価と実際のフォトリソグラフィープロセスへのこの方法の適用は,この方法が,マイクロエレクトロニクス製造の改良敏捷性と生産性の両方を満足させることによって次世代フォトマスク作製法を構成していることを確認した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 印刷 ,  マスキング ,  光触媒 ,  *フォトレジスト ,  ハイブリッド複合材料 ,  マイクロエレクトロニクス ,  再帰反射 ,  真空蒸着 ,  *フォトマスク ,  メタライゼーション ,  *フォトリソグラフィー ,  レーザ
準シソーラス用語： レーザ誘起 ,  その場合成 ,  *溶液処理 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： フォトマスク ,  レーザプロセス ,  有機金属化合物 ,  フォトリソグラフィー ,  溶液プロセス

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： レーザ ,  フォトマスク ,  段階 ,  フォトレジスト ,  悪性度 ,  フォトリソグラフィー ,  マスク