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J-GLOBAL ID：201702236661182873   整理番号：17A0244845

Ar,N₂,NH₃存在下における酸化グラフェンの高圧化学

High-Pressure Chemistry of Graphene Oxide in the Presence of Ar, N₂, and NH₃

著者 (11件)： CEPPATELLI Matteo (European Lab. for Non-Linear Spectroscopy, Firenze, ITA) ,  CEPPATELLI Matteo (Inst. of Chemistry of OrganoMetallic Compounds, National Res. Council of Italy, Firenze, ITA) ,  SCELTA Demetrio (European Lab. for Non-Linear Spectroscopy, Firenze, ITA) ,  SCELTA Demetrio (Inst. of Chemistry of OrganoMetallic Compounds, National Res. Council of Italy, Firenze, ITA) ,  TUCI Giulia (Inst. of Chemistry of OrganoMetallic Compounds, National Res. Council of Italy, Firenze, ITA) ,  GIAMBASTIANI Giuliano (Inst. of Chemistry of OrganoMetallic Compounds, National Res. Council of Italy, Firenze, ITA) ,  GIAMBASTIANI Giuliano (Kazan Federal Univ., Kazan, RUS) ,  HANFLAND Michael (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  BINI Roberto (European Lab. for Non-Linear Spectroscopy, Firenze, ITA) ,  BINI Roberto (Universita degli Studi di Firenze, Firenze, ITA) ,  BINI Roberto (Inst. of Chemistry of OrganoMetallic Compounds, National Res. Council of Italy, Firenze, ITA)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 120  号： 9  ページ： 5174-5187  発行年： 2016年03月10日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 純粋な酸化グラフェン(GO)と,GOの層間に挿入され得る小さな大きさの異原子(Ar)や分子系(N₂,NH₃)の存在下におけるGOの高圧構造と反応特性が評価された。室温での昇圧と降圧によってGOの層間距離の圧力変化が観測され,層間への異原子/分子系の圧力誘起挿入現象と,加圧下におけるGOの層状構造の安定性が観測された。N₂とNH₃について,GOとの熱反応性と光反応性の圧力依存性が評価されて,GOとの化学反応による,Nの結合とGOの官能化が観測され,GOの高圧化学に対する新しい洞察と,炭素系ナノ構造への展望が示される。

シソーラス用語： *グラフェン ,  *酸化物 ,  *化学 ,  *アルゴン ,  *窒素 ,  *アンモニア ,  層間隔 ,  インターカレーション ,  層状組織 ,  熱化学反応 ,  光化学反応 ,  官能化 ,  ドーピング
準シソーラス用語： *酸化グラフェン ,  *高圧化学 ,  窒素ドープ

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  非金属元素とその化合物の結晶構造  (BK07010N)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ar ,  N2 ,  NH3 ,  酸化グラフェン ,  高圧化学