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J-GLOBAL ID：201702237224911893   整理番号：17A0360574

熱処理下での硫黄と数層グラフェン相互作用【Powered by NICT】

Sulfur and few-layer graphene interaction under thermal treatments

著者 (5件)： Bautista-Flores C. (Instituto de Investigaciones en Materiales-UNAM, Circuito Exterior, Coyoacan 04510, Ciudad de Mexico, Mexico) ,  Arellano-Peraza J.S. (Universidad Autonoma Metropolitana, Av. San Pablo 180, Reynosa-Tamaulipas, Azcapotzalco 02200, Ciudad de Mexico, Mexico) ,  Sato-Berru R.Y. (Centro de Ciencias Aplicadas y Desarrollo Tecnologico-UNAM, Circuito Exterior, Coyoacan 04510, Ciudad de Mexico, Mexico) ,  Camps E. (Instituto Nacional de Investigaciones Nucleares, Carretera Mexico-Toluca, La Marquesa 52750, Ocoyoacac, Mexico) ,  Mendoza D. (Instituto de Investigaciones en Materiales-UNAM, Circuito Exterior, Coyoacan 04510, Ciudad de Mexico, Mexico)
資料名： Chemical Physics Letters  (Chemical Physics Letters)
巻： 665  ページ： 121-126  発行年： 2016年 
JST資料番号： B0824A  ISSN： 0009-2614  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電気的およびRaman分光法特性化により熱処理下で二多層グラフェン膜の間に束縛された硫黄を研究した。硫黄相転移中のナノ多孔質アルミナ中に浸漬した硫黄の電気的挙動と熱量測定の間の類似性は,それは遊離状態と比較して閉じ込め条件にあるとき,硫黄は,異なる熱挙動を示すことを示唆した。加えて,500°Cで多層グラフェンと硫黄の反応は電荷濃度の約2×10~13cm~ 2の共有結合とp型ドーピングを生成した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： Raman分光法 ,  共有結合 ,  *硫黄 ,  キャラクタリゼーション ,  浸漬 ,  *グラフェン ,  熱量測定 ,  電荷 ,  *熱処理 ,  類似性
準シソーラス用語： p型ドーピング ,  熱挙動 ,  遊離状態 ,  ナノ多孔質アルミナ ,  多層グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： グラフェン ,  硫黄 ,  ドーピング ,  Raman分光法

分類 (3件)： 表面の電子構造  (BM02080J) ,  半導体薄膜  (BK14040E) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 熱処理 ,  硫黄 ,  数層グラフェン ,  相互作用