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J-GLOBAL ID:201702238185618409   整理番号:17A0404354

TiO_2/UVプロセスを用いたベンラファキシンの分解速度論的研究,RSM最適化,形質転換生成物の同定と毒性評価【Powered by NICT】

Degradation of venlafaxine using TiO2/UV process: Kinetic studies, RSM optimization, identification of transformation products and toxicity evaluation
著者 (5件):
資料名:
巻: 323  号: PA  ページ: 513-526  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0362A  ISSN: 0304-3894  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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UV/TiO_2プロセスによる抗うつ薬ベンラファキシン(VNF)の光化学分解を本研究で調べた。スクリーニング実験は光触媒過程に影響する主要なパラメータの影響を研究するために行った。添加では,最も影響パラメータの影響及び相互作用を中心複合計画モデルと応答曲面法を用いて評価し,最適化した。結果はVNFはすべての照射実験で迅速に除去し,その分解は主に検討した変数(触媒添加量,初期VNF濃度とpH),ならびにそれらの相互作用効果によって影響されることを示した。動力学研究と並行して,処理中に生成した変換生成物(TPs)は低および高分解能質量分析と組み合わせたLCを用いて調べた。主なTPsの同定に基づいて,提案した,主要な変換経路としてヒドロキシル化,脱メチル化と脱水が含まれていた暫定的な変換経路。水性生物に対するVNFとそのTPsの潜在的リスクも使用する前に,プロセス中にMicrotoxバイオアッセイ研究した。得られた結果は,第一段階で急性毒性の増加と連続的に減少する後240分の光触媒処理の内で達した非常に低い値を示し,UV/TiO_2は親化合物の除去と溶液の解毒につながる可能性があることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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その他の汚染原因物質  ,  下水,廃水の化学的処理 
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