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J-GLOBAL ID:201702238728945269   整理番号:17A0303610

分子シミュレーションに基づく炭層CH_4脱着法則の研究【JST・京大機械翻訳】

CH_4 desorption rule in coalbed based on molecule simulation
著者 (6件):
資料名:
巻:号:ページ: 67-71  発行年: 2016年 
JST資料番号: C3041A  ISSN: 2095-1426  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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分子シミュレーション法を用いて,異なる細孔におけるメタンの脱着状態を研究し,温度,圧力,細孔径とCH_4吸着量の関係を論じた。結果は,CH_4の脱着に及ぼす温度の影響は,より低い温度範囲では明白でなく,CH_4の脱着は,温度の上昇によって,大いに改善されることを示した。降圧はCH_4の脱着を促進するが,細孔中のCH_4を効果的に除去することはできない。細孔径に及ぼすCH_4の吸着効果は,1NMと2NMの細孔径におけるCH_4の吸着熱と比較して,細孔径が1NMの細孔中のCH_4の脱着が比較的困難であることを示した。細孔径の増加とともに,2~9NMの絶対吸着量は増加し,そして,増加幅は減少した。細孔径が2NMより大きいとき,自由空間体積は全の大きさを決定する主要因であり,呈吸附態の安定性は一定の範囲内にあり,これはCH_4の拡散と浸透に重要な意味を持つ。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
著者キーワード (4件):
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吸着剤  ,  分子化合物  ,  一成分系の相平衡・状態図  ,  吸着の電子論 
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