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J-GLOBAL ID：201702238993983931   整理番号：17A0447794

太陽光下でのポリスチレンCuO/Cu-2 0均一膜誘導MB分解【Powered by NICT】

Polystyrene CuO/Cu₂O uniform films inducing MB-degradation under sunlight

著者 (5件)： Baghriche O. (Universite Constantine 1, Laboratoire des Techniques Innovants de Preservation de l’Environnement (LTIPE), Constantine 25017, Algeria) ,  Baghriche O. (Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, EPFL-SB-ISIC-GPAO, Station 6, CH-1015, Lausanne, Switzerland) ,  Rtimi S. (Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, EPFL-SB-ISIC-GPAO, Station 6, CH-1015, Lausanne, Switzerland) ,  Pulgarin C. (Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, EPFL-SB-ISIC-GPAO, Station 6, CH-1015, Lausanne, Switzerland) ,  Kiwi J. (Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, EPFL-SB-ISIC-GPAO, Station 6, CH-1015, Lausanne, Switzerland)
資料名： Catalysis Today  (Catalysis Today)
巻： 284  ページ： 77-83  発行年： 2017年 
JST資料番号： T0363A  ISSN： 0920-5861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,低強度の模擬太陽光照射下でのメチレンブルー(MB)の脱色/劣化につながるポリスチレン(PS)上のCuスパッタ膜について報告した。直流マグネトロンスパッタリング(DCMS)をポリスチレン基板上に均一で接着Cu/Cu酸化物をグラフトするために用いた。H_2O_2を添加Cu PS仲介MB脱色の反応速度は90~120分で起こることを観察した。表面電位とpH変化は,MB脱色中のCu PS表面に追跡した。色素変色機構に関連する観察された変化の洞察を提供する。酸化ラジカルMB分解の濃度,平均自由行程と寿命を推定した。PS上にCu/Cu酸化物をX線回折(XRD)によって特性化した。Cu(I)/Cu(II)種を含む酸化還元触媒のX線光電子分光法(XPS)証拠は,MB脱色中に検出された。またXPSによる表面原子百分率濃度が最外Cu PS層に対して決定した。Cu PS被覆はまた,それらの光学的および結晶学的性質を調べた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線回折 ,  X線光電子分光法 ,  色素異常症 ,  脱色 ,  キャラクタリゼーション ,  移植片 ,  酸化 ,  *ポリスチレン ,  酸化還元反応 ,  反応速度 ,  *太陽光 ,  平均自由行程 ,  *銅 ,  表面電位
準シソーラス用語： DCマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： スパッタCu PS膜MB変色 ,  Kinetics ,  Cu層厚さ ,  Cu PS膜のキャラクタリゼーション ,  DRS ,  XRDとXPS

分類 (2件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  酸化,還元  (CF02060T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 太陽光 ,  ポリスチレン ,  CuO ,  Cu ,  誘導 ,  分解