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J-GLOBAL ID：201702240658714272   整理番号：17A0729373

ZNO/ZNO共ドープP型ZNO膜の形成機構と性質を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Formation Mechanism and Properties of In,P Codoped p-type ZnO Thin Film

著者 (10件)： CHEN Zuhong (Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences) ,  YAO Bin (Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences) ,  ZHENG Changji (Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences) ,  YANG Tong (Faculty of Physics,Jilin University) ,  ZHAO Tingting (Faculty of Physics,Jilin University) ,  SHAN Chongxin (Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences) ,  ZHANG Zhenzhong (Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences) ,  LI Binghui (Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences) ,  ZHANG Jiying (Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences) ,  SHEN Dezhen (Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences)
資料名： Faguang Xuebao  (Faguang Xuebao)
巻： 30  号： 1  ページ： 12-18  発行年： 2009年02月 
JST資料番号： W1380A  ISSN： 1000-7032  CODEN： FAXUEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ZNO/IN共ドープZNO薄膜(ZNO:IN,P)を,高周波マグネトロンスパッタリングにより石英基板上に成長させ,ZNO(IN_2O_5)と酸化インジウム(IN_2O_3)をドープした酸化亜鉛(ZNO)セラミックターゲットを調製した。ARとO_2の混合ガスは,それぞれ1.5%と0.3%の質量分率で混合した。ZNO薄膜は絶縁性であり,600°Cで5MINアニールした後に導電型はN型であるが,800°Cで5MINアニールするとP型になり,P型ZNO薄膜の抵抗率,キャリア濃度及びHALL率はそれぞれ12.4ΩCMであった。1.6×10(17)CM(-3)と3.29CM2V(-1)S(-1)のX線回折の結果は,すべてのサンプルが(002)回折ピークを持ち,同じ条件で成長した未ドープZNOと比較して,大きな方向にシフトすることを示した。結果は,INとPがZNサイトを占有することを意味し,XPSの結果によると,共ドープZNO薄膜におけるPは置換Oではなく置換ZNであることを示した。そのため、ZNO/ZNO共ドープZNO薄膜において、INとPはいずれもZNを置換し、しかもP_ZNと2つの亜鉛空孔(V_ZN)はP_ZN-2V_ZN複合アクセプタを形成し、薄膜はP型である。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電気抵抗率 ,  亜鉛 ,  混合気体 ,  *ドーピング ,  キャリア密度 ,  アクセプタ ,  X線回折 ,  酸化インジウム ,  焼なまし ,  薄膜 ,  酸化亜鉛
準シソーラス用語： 質量分率 ,  石英基板 ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  *形成機構 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ZnO ,  codoping ,  RF magnetron sputtering ,  XPS

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： ZnO ,  ドープ ,  性質 ,  研究