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J-GLOBAL ID：201702241551635282   整理番号：17A0759387

パルスUVレーザ照射による反応性スパッタNiO_x薄膜の改質【Powered by NICT】

Modification of reactively sputtered NiO_x thin films by pulsed UV laser irradiation

著者 (4件)： Itapu Srikanth (Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Toledo, Toledo, OH, 43606, USA) ,  Georgiev Daniel G. (Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Toledo, Toledo, OH, 43606, USA) ,  Uprety Prakash (Department of Physics and Astronomy and Wright Center for Photovoltaics Innovation and Commercialization, University of Toledo, Toledo, OH, 43606, USA) ,  Podraza Nikolas J. (Department of Physics and Astronomy and Wright Center for Photovoltaics Innovation and Commercialization, University of Toledo, Toledo, OH, 43606, USA)
資料名： Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science  (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻： 214  号： 2  ページ： ROMBUNNO.201600414  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 1862-6300  CODEN： PSSABA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,酸化ニッケル(NiO_x)薄膜の構造的,電気的,および光学的性質に及ぼす紫外(UV)レーザ照射の影響,酸素を含む雰囲気中でニッケルの反応性スパッタリングにより堆積したについて報告した。伝導型はp型からn型に変えることができ,抵抗率レーザパルスの数が増加するにつれ減少し,その後再び増加することが分かった。蒸着したままの膜は多結晶で,レーザ照射は,膜が非晶質にした。Niリッチレーザ照射NiO_xにOリッチNiO_x堆積したままの膜から観察された遷移は,エレクトロクロミック,抵抗スイッチング,および他の応用に重要である。蒸着されたままとレーザ照射NiO_x膜のバンドギャップは分光偏光解析測定から得られ,レーザ照射によりわずかに増加した。も表面粗さが僅かに増加することが観察された。膜の構造と組成における加齢効果または不安定性も正常条件で観測した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 非晶質 ,  *レーザ照射 ,  不安定性 ,  電気抵抗率 ,  *薄膜 ,  偏光解析法 ,  レーザパルス ,  酸化ニッケル ,  バンドギャップ ,  酸素 ,  *紫外レーザ ,  多結晶 ,  光学的性質 ,  ニッケル ,  *反応性スパッタリング

著者キーワード (4件)： 偏光解析 ,  レーザ照射 ,  マグネトロンスパッタリング ,  酸化ニッケル

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルス ,  UVレーザ ,  反応性スパッタ ,  薄膜 ,  改質