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J-GLOBAL ID：201702241635611077   整理番号：17A0364509

BiOBrナノシートの光触媒活性に及ぼす光誘起Bi自己ドーピングの影響【Powered by NICT】

Influence of photoinduced Bi-related self-doping on the photocatalytic activity of BiOBr nanosheets

著者 (9件)： Wu Dan (School of Life Sciences, The Chinese University of Hong Kong, Shatin, NT, Hong Kong SAR, China) ,  Yue Songtao (College of Materials Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Wang Wei (College of Materials Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  An Tiacheng (Institute of Environmental Health and Pollution Control, School of Environmental Science and Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, China) ,  Li Guiying (Institute of Environmental Health and Pollution Control, School of Environmental Science and Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, China) ,  Ye Liqun (School of Life Sciences, The Chinese University of Hong Kong, Shatin, NT, Hong Kong SAR, China) ,  Ye Liqun (College of Chemistry and Pharmaceutical Engineering, Nanyang Normal University, Nanyang 473061, China) ,  Yip Ho Yin (School of Life Sciences, The Chinese University of Hong Kong, Shatin, NT, Hong Kong SAR, China) ,  Wong Po Keung (School of Life Sciences, The Chinese University of Hong Kong, Shatin, NT, Hong Kong SAR, China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 391  号： PB  ページ： 516-524  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： UV照射下で,自己ドープBi~5+はBiOBrナノシートの表面に依存したが,純粋な対応物と比較して良く保存された結晶構造と形態を持つ生成されることを明らかにした。Bi~5+自己ドーピングBiOBr(BiOBr 4)は染料の分解のための異なる光触媒モードを示し,純粋なBiOBrナノシートと比較した。これら光分解差異は主にBiOBr表面上の二光誘起正孔(h~+)媒介酸化プロセスの同時発生に起因する(1)光励起時間~+の一部は,染料の光触媒酸化に関与している,(2)部分的H~+はBi~3+Bi~5+への酸化を含む。,BiOBr4つのナノシートは比較的フェノール分解と細菌不活性化のための優れた光触媒活性を示した。Bi~5+誘引される狭いバンドギャップと増強された光吸着容量に加えて,有意に,酸化Bi~5+は光励起電子-正孔分離を促進し,H~+の移動を加速し,BiOBr4つのナノシートのかなりの光触媒増強をもたらす電子トラップとして作用する。これら新しい所見は,だけでなく光触媒機構への新しい洞察を与えるが,Bi系材料の光触媒性能を向上させるために新しい経路を探索する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 紫外線照射 ,  *光触媒 ,  *ビスマス ,  バンドギャップ ,  *ドーピング ,  光分解 ,  光ポンピング ,  結晶構造 ,  不活性化 ,  正孔 ,  *触媒活性 ,  *ナノシート
準シソーラス用語： 吸着容量 ,  *光誘起 ,  *光触媒活性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： BiOBrナノシート ,  自己ドーピング ,  正孔酸化 ,  展望 ,  細菌不活性化

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノシート ,  光触媒活性 ,  光誘起 ,  Bi ,  自己ドーピング